主题:【求助】我的ICP做硅的空白很高

浏览0 回复16 电梯直达
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用了HF,空白相当高,用HF洗很久都洗不掉,各位大虾赐教一下,到底是哪个部位造成了硅的沉积,我用的是耐HF的雾化室
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hunk
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原文由 shey_211 发表:
用了HF,空白相当高,用HF洗很久都洗不掉,各位大虾赐教一下,到底是哪个部位造成了硅的沉积,我用的是耐HF的雾化室


前处理严禁接触玻璃器皿---因为其中含有大量si,而处理时往往要用到HF--
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整个前处理过程完全没有碰到玻璃器皿,而且就用HF洗雾化器也洗不掉里面的硅,直接做空白硅都很高
wanghj520
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sundyvan
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你做一下制备空白,看一下是不是污染。然后定性扫一下样品液,看看是不是干扰。最后,选择三条谱线再试一下。
再不行,我也没办法了。
bingerfchaaa
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hjh821225
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你 空白 是什么 HF+H2O?

你  雾化器是玻璃的 还用HF ?  有钱啊
试试碱融~~~~~~~
Linda207
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不孤独的星:你好啊,你是做什么样的硅产品?可以的话留个联系方式,以后我也可能要做这方面的工作,交个工作伙伴吧?我的邮箱:chenjf1300207@126.com
sundyvan
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原文由 hjh821225 发表:
你 空白 是什么 HF+H2O?

你  雾化器是玻璃的 还用HF ?  有钱啊
试试碱融~~~~~~~


他都说了,耐氢氟酸雾化器啦。。。。。。
kittlewjj
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jamrxjw1
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我想你还是注意一下你样品溶解用的是什么器具,应该用聚四氟乙烯的烧杯,低温溶解,如果我没记错的话,测硅是不能用HF溶解的,会跑掉的.
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