主题:【求助】求助高分辨图像分析

浏览0 回复31 电梯直达
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嗯,当然最好有对应的SAED,不过没有也就算了。
我查了一下:JEM2100F的晶格分辨率是0.10 nm。看来我的推断有问题,sorry。
mosquitowell
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我已经把dm3格式的原始图片发你邮箱了,
请您看看是否已经收到,感觉我测得还是比较准的!!!
谢谢!!!
mosquitowell
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原文由 shxie 发表:
嗯,当然最好有对应的SAED,不过没有也就算了。
我查了一下:JEM2100F的晶格分辨率是0.10 nm。看来我的推断有问题,sorry。


我发的是原始的图,由于测试的时候说仪器打衍射效果不是很好,所以我的衍射图只是转换过来的!
看来分辨率是没有什么问题了,而且那次真好是日电的工程师来了,帮我做的高分辨,本来出不来二次格子的(说是样品厚了),所以我觉得图还是比较准的吧
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原文由 mosquitowell 发表:
我已经把dm3格式的原始图片发你邮箱了,
请您看看是否已经收到,感觉我测得还是比较准的!!!
谢谢!!!

图片收到,难为gmail了,16M的图居然也承受了。
我的测量结果和你可以说完全一致。三个晶面都在0.203nm左右,而角度都是60度,如果按照d值对,你说XRD对应的是FCC,那么只能是111,而111的晶面之间的夹角只能是70.5,109.5和0度。这样根据角度,只能选择{220}晶面族。
既然两种都无法吻合,那么我只能做如下推测:
1. TEM的标尺有误,需要做校正。
2. 做高分辨的时候DV值不是在+0,或者说样品高度未处于eucentric height位置,导致测量结果有偏差。
即便如此,也只能勉强解释,还必须用我说的那个思路去解释{110}出现,因为在厚度过大的情况下,有可能分辨率达不到最佳值,在无法分辩220这个d值时,看到两倍于220晶面的110晶面,还是可以接受的。

鉴于这样解释的前提条件太多,而二位又不同意我的这个观点,那么还是请其他大侠来指教吧,我也好一起学习,耽误您的宝贵时间,见谅。
mosquitowell
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首先要劳烦shxie大侠帮忙分析了,我只是做了几次TEM,对很多术语还不是很懂,请见谅,你所说的DV值和eucentric height我不是很明白;
你提到:
即便如此,也只能勉强解释,还必须用我说的那个思路去解释{110}出现,因为在厚度过大的情况下,有可能分辨率达不到最佳值,在无法分辩220这个d值时,看到两倍于220晶面的110晶面,还是可以接受的。
您说看到了110晶面,但是衍射花样和晶面间距是111的,如果说测试的原因,110和111还是差很多吧,(111面0.203,110面0.248),顺便问一下,110晶面是不是消光的啊,不会出现吧?
剩下来就只有标尺和测试时的原因拉,如果真的是这个原因,还真是有点遗憾啊,好不容易测出来的二维格子像,下次还不知道测得出来么。(样品直径有35nm外面还老是包着一层非晶的东西)。
不过还是要谢谢您教了我这么多,不知不觉学了很多了,谢谢!!!
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Last edit by mosquitowell
wellpaper
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shxie,您太谦虚了

其实我觉得原因就是您说的第一条。

而第二条,对于均匀分布的二维格子,当分辨率达不到的时候,也不会看到两倍间距的220的格子啊????因为格子格子之间的间距不都是固定了的吗??

可能是我基础太差了,把电镜看东西理解成了光学显微镜看东西,不知道这个问题怎么才能解决好,学习学习,继续等待
mosquitowell
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shxie大侠,你一直在说可能是由于种种原因,基于110 和 111晶面的晶面间距相差不大,所以高分辨像的晶面是110晶面,
但是这样的话衍射花样标定的晶面也应该是110晶面
我的Ni XRD结果与标准图谱比较,得到的Ni为FCC面心立方结构,而对于此结构的物质衍射花样 h,k,l奇偶混杂是消光,所以肯定不会出现110 晶面啊,这样您说的解释好像就不妥了吧!!!(110晶面在衍射花样中出现也是超点阵斑点)
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原文由 mosquitowell 发表:
首先要劳烦shxie大侠帮忙分析了,我只是做了几次TEM,对很多术语还不是很懂,请见谅,你所说的DV值和eucentric height我不是很明白;
你提到:
即便如此,也只能勉强解释,还必须用我说的那个思路去解释{110}出现,因为在厚度过大的情况下,有可能分辨率达不到最佳值,在无法分辩220这个d值时,看到两倍于220晶面的110晶面,还是可以接受的。
您说看到了110晶面,但是衍射花样和晶面间距是111的,如果说测试的原因,110和111还是差很多吧,(111面0.203,110面0.248),顺便问一下,110晶面是不是消光的啊,不会出现吧?
剩下来就只有标尺和测试时的原因拉,如果真的是这个原因,还真是有点遗憾啊,好不容易测出来的二维格子像,下次还不知道测得出来么。(样品直径有35nm外面还老是包着一层非晶的东西)。
不过还是要谢谢您教了我这么多,不知不觉学了很多了,谢谢!!!

刚回到家,回复晚了点。
DV值是指相对于物镜电流设定值的偏差量,eucentric height可以说是最佳高度,我说这两个参数的意思是,电镜没有在最好的条件下就拍照了,这样聚焦点就会偏离正常值,从而影响放大倍数。
110面的确和0.203这个值相差比较大,但目前从你给的条件来看,只有这样才能对的上,所以我说是可能标尺错了。
你说样品有一层35 nm厚的壳层?那么这也有可能是影响测量的原因之一。
至于110面的确是消光的,但不代表消光面就看不到啊,呵呵。
教这个字算不上,大家一起讨论如果能有个好的结论,对每个人都是收获,呵呵。
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shxie大侠,你一直在说可能是由于种种原因,基于110 和 111晶面的晶面间距相差不大,所以高分辨像的晶面是110晶面,
但是这样的话衍射花样标定的晶面也应该是110晶面
我的Ni XRD结果与标准图谱比较,得到的Ni为FCC面心立方结构,而对于此结构的物质衍射花样 h,k,l奇偶混杂是消光,所以肯定不会出现110 晶面啊,这样您说的解释好像就不妥了吧!!!(110晶面在衍射花样中出现也是超点阵斑点)

其实这个问题,很久之前我就想在版面上请教:消光面如果出现,是有几种情况呢?
你说的超点阵是一种情况。我说的这种解释值得商榷,请大家指教!
mosquitowell
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原文由 shxie 发表:
刚回到家,回复晚了点。
DV值是指相对于物镜电流设定值的偏差量,eucentric height可以说是最佳高度,我说这两个参数的意思是,电镜没有在最好的条件下就拍照了,这样聚焦点就会偏离正常值,从而影响放大倍数。
110面的确和0.203这个值相差比较大,但目前从你给的条件来看,只有这样才能对的上,所以我说是可能标尺错了。
你说样品有一层35 nm厚的壳层?那么这也有可能是影响测量的原因之一。
至于110面的确是消光的,但不代表消光面就看不到啊,呵呵。
教这个字算不上,大家一起讨论如果能有个好的结论,对每个人都是收获,呵呵。


shxie 大侠太谦虚了,我的确很多地方地方都是在不断和您交流中学到的,再到论坛里面搜索才得以了解的,您的确无形之中教会了我很多了,谢谢!!!
对于我的样品,我也是很头痛拉,本身就很粗35nm左右,而且又在外面包了一层10nm左右的非晶东西(测试人员说20nm一下最好),所以样品的原因估计影响不小啊!!!
至于110面什么时候消光,什么时候出现,我还真是一头雾水啊,还希望大侠多讲讲啊 !多学习下,我也好分析!
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