主题:【讨论】AES表面蒸镀

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七月冰
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我前一段时间遇到了一个AES测试的问题。
样品是非导电的球体,需要看表面N元素的分布。最终就是因为不导电无法测试。
但是我听说,比较先进的蒸镀设备可以在样品表面镀铱,颗粒比镀金要小很多,而且可以控制镀层厚度在一个原子层左右。另外还可以选择镀碳。
不知道论坛里有没有人在用这种设备,其性能怎么样?能不能做到那么精确的程度?

有没有做AES的高手,遇到过类似问题没有呢?

希望跟大家讨论交流一下,望高手支招!
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yuansu123456
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看N分布用xps就可以,为什么要用aes?
导电性不好,可以用电子中和枪进行电荷补偿,消除电荷效应,样品尽量制得小薄些就可以了
七月冰
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原文由 yuansu123456 发表:
看N分布用xps就可以,为什么要用aes?
导电性不好,可以用电子中和枪进行电荷补偿,消除电荷效应,样品尽量制得小薄些就可以了

样品是多孔结构,球状,直径0.5-1mm,表面的孔径大概几十nm,怀疑表面N元素和孔内及附近的分布不一样,因此要用AES来查看N元素的分布是否有什么规律。由于样品本身已经很小,再制样不容易且易造成二次污染。
各种因素结合在一起,就觉得比较麻烦了
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