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主题：【讨论】压溶剂峰与去耦的原理一样吗？

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20100314
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发表于：2010/06/10 13:06:00 楼主 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
压溶剂峰与去耦的原理一样吗？分别是什么
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2010/6/13 2:24:06 沙发 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
压溶剂峰得用到去耦的技术. 但不是完全一样.
涉及到去耦技术的有同核去耦, 一维 noe, 压溶剂峰等, 显现出来的结果都有些不同.
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2010/6/23 23:15:13 板凳 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
原文由 sslin(sslin) 发表:
压溶剂峰得用到去耦的技术. 但不是完全一样.
涉及到去耦技术的有同核去耦, 一维 noe, 压溶剂峰等, 显现出来的结果都有些不同.

查阅相关资料：
Noesy1D: 照射峰倒立, 相关峰正向出现, 不相关峰不出现;
压溶剂峰: 照射峰消失，其他峰保持不动（一般用于去除溶剂峰）
同核去耦: 经照射, 原耦合裂分的峰变单纯化
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