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主题：【讨论】三重四级杆中离子源与碰撞池

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郑嘉
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发表于：2017/08/06 16:42:45 楼主 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
三重四级杆中离子源与碰撞池的作用一个是使样品离子化（电子撞击），一个是是离子碎片化（气体撞击），请问电子撞击和气体撞击的差别是什么呢？离子化是否也可以用气体来撞击，或者CID是否也可以用电子来撞击呢？谢谢。
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2017/8/6 17:26:45 沙发 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
应该是气体撞击的能量更大，母离子才能被打得更碎。
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qqqid
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2017/8/8 12:36:15 板凳 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
电子撞击离子化就是EI源，气体撞击离子化就是CI源，离子化能不能用气体撞击就不用纠结了。
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yifan1117
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2017/8/8 15:42:53 马扎 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
原文由 qqqid(qqqid) 发表:
电子撞击离子化就是EI源，气体撞击离子化就是CI源，离子化能不能用气体撞击就不用纠结了。
恩，离子化不能气体撞击的。
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郑嘉
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2017/9/1 11:56:34 地毯 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
原文由 qqqid(qqqid) 发表:
电子撞击离子化就是EI源，气体撞击离子化就是CI源，离子化能不能用气体撞击就不用纠结了。
CI源应该不是用气体撞击吧，只是用电子撞击反应气，然后反应气与样品反应。
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