主题:【讨论】谁有SiCl4中痕量杂质(含量在ppt-ppb级)钙、磷、铁、钛、铝、硼分析方法?主要是前处理方法

浏览0 回复24 电梯直达
nps
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讨论下你这方法的几点地方
1、50ML水...得用多少时间蒸干啊?时间长了容易被沾污;
2、2ml四氯化硅定容到25ml,稀释12.5倍,样品稀释倍数太大了;
3、直接加入HF,样品里的硼会有较大的损失;
4、样品处理的器皿选择,我觉得也要好好考虑,既然是PPB或者亚PPB级,稀释10倍左右,对器皿的金属溶出性要求应该比较高了


PS:网上应该可以查到几篇四氯化硅处理的文章的。不过,工厂里成熟的处理方法基本上别想了,这些现在应该都是属于企业的机密的,不会轻易泄露出来的。貌似现在 三氯氢硅、四氯化硅、高纯硅的前处理及测定 很多人都在找方法啊
小飞霞
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讨论下你这方法的几点地方
1、50ML水...得用多少时间蒸干啊?时间长了容易被沾污;
2、2ml四氯化硅定容到25ml,稀释12.5倍,样品稀释倍数太大了;
3、直接加入HF,样品里的硼会有较大的损失;
4、样品处理的器皿选择,我觉得也要好好考虑,既然是PPB或者亚PPB级,稀释10倍左右,对器皿的金属溶出性要求应该比较高了


PS:网上应该可以查到几篇四氯化硅处理的文章的。不过,工厂里成熟的处理方法基本上别想了,这些现在应该都是属于企业的机密的,不会轻易泄露出来的。貌似现在 三氯氢硅、四氯化硅、高纯硅的前处理及测定 很多人都在找方法啊

谢谢你参与讨论,我做点解释:1 水加多了蒸发确实费时,但因水解太剧烈,水少了水解产物会直接溅射出来,造成损失。2 我认为聚四氟乙烯的器皿惰性强,不会出现金属溶出的,你是不是有更好的器皿,不妨介绍一下
jpc0016
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你也是做多晶硅行业的。。
我也是用ICP-MS的  以后多多交流,我QQ:274384357
nps
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2、2ml四氯化硅定容到25ml,稀释12.5倍,样品稀释倍数太大了;
3、直接加入HF,样品里的硼会有较大的损失;
4、样品处理的器皿选择,我觉得也要好好考虑,既然是PPB或者亚PPB级,稀释10倍左右,对器皿的金属溶出性要求应该比较高了


PS:网上应该可以查到几篇四氯化硅处理的文章的。不过,工厂里成熟的处理方法基本上别想了,这些现在应该都是属于企业的机密的,不会轻易泄露出来的。貌似现在 三氯氢硅、四氯化硅、高纯硅的前处理及测定 很多人都在找方法啊

谢谢你参与讨论,我做点解释:1 水加多了蒸发确实费时,但因水解太剧烈,水少了水解产物会直接溅射出来,造成损失。2 我认为聚四氟乙烯的器皿惰性强,不会出现金属溶出的,你是不是有更好的器皿,不妨介绍一下


有一篇文献不知道你看过没有,可以参考一下:改进的挥硅-ICP-MS法测定高纯四氯化硅中金属杂质
laidekeai
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3、直接加入HF,样品里的硼会有较大的损失;
4、样品处理的器皿选择,我觉得也要好好考虑,既然是PPB或者亚PPB级,稀释10倍左右,对器皿的金属溶出性要求应该比较高了


PS:网上应该可以查到几篇四氯化硅处理的文章的。不过,工厂里成熟的处理方法基本上别想了,这些现在应该都是属于企业的机密的,不会轻易泄露出来的。貌似现在 三氯氢硅、四氯化硅、高纯硅的前处理及测定 很多人都在找方法啊

谢谢你参与讨论,我做点解释:1 水加多了蒸发确实费时,但因水解太剧烈,水少了水解产物会直接溅射出来,造成损失。2 我认为聚四氟乙烯的器皿惰性强,不会出现金属溶出的,你是不是有更好的器皿,不妨介绍一下


有一篇文献不知道你看过没有,可以参考一下:改进的挥硅-ICP-MS法测定高纯四氯化硅中金属杂质


在那可以查到啊?
laidekeai
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danhim
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3、直接加入HF,样品里的硼会有较大的损失;
4、样品处理的器皿选择,我觉得也要好好考虑,既然是PPB或者亚PPB级,稀释10倍左右,对器皿的金属溶出性要求应该比较高了


PS:网上应该可以查到几篇四氯化硅处理的文章的。不过,工厂里成熟的处理方法基本上别想了,这些现在应该都是属于企业的机密的,不会轻易泄露出来的。貌似现在 三氯氢硅、四氯化硅、高纯硅的前处理及测定 很多人都在找方法啊

谢谢你参与讨论,我做点解释:1 水加多了蒸发确实费时,但因水解太剧烈,水少了水解产物会直接溅射出来,造成损失。2 我认为聚四氟乙烯的器皿惰性强,不会出现金属溶出的,你是不是有更好的器皿,不妨介绍一下



一般聚四氟乙烯的器皿的都会有金属溶出的,我们的做法是:新器皿启用前,用HNO3煮一段时间,然后用超纯水充分洗净;另外,按你的做法,水解那么剧烈放热一定很多,痕量金属元素不会被HCl蒸发带出而造成损失吗?
danhim
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4、样品处理的器皿选择,我觉得也要好好考虑,既然是PPB或者亚PPB级,稀释10倍左右,对器皿的金属溶出性要求应该比较高了


PS:网上应该可以查到几篇四氯化硅处理的文章的。不过,工厂里成熟的处理方法基本上别想了,这些现在应该都是属于企业的机密的,不会轻易泄露出来的。貌似现在 三氯氢硅、四氯化硅、高纯硅的前处理及测定 很多人都在找方法啊

谢谢你参与讨论,我做点解释:1 水加多了蒸发确实费时,但因水解太剧烈,水少了水解产物会直接溅射出来,造成损失。2 我认为聚四氟乙烯的器皿惰性强,不会出现金属溶出的,你是不是有更好的器皿,不妨介绍一下



一般聚四氟乙烯的器皿的都会有金属溶出的,我们的做法是:新器皿启用前,用HNO3煮一段时间,然后用超纯水充分洗净;另外,按你的做法,水解那么剧烈放热一定很多,痕量金属元素不会被HCl蒸发带出而造成损失吗?


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liaoxiaozi
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大家说是机密 其实没有个甚 好多都是一个方法在做
suifengxiatian
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