【序号】： 【作者】： Yanqiu Li , Yuan Zhou 【题名】： Optimization of resolution-enhancement technology and dual-layer bottom-antireflective coatings in hypernumerical aperture lithography 【期刊】： J. Vac. Sci. Technol. B 【年、卷、期】： 2008，26(2) 【全文链接】： http://scitation.aip.org/vsearch/servlet/VerityServlet?KEY=FREESR&smode=strresults&sort=chron&maxdisp=25&threshold=0&possible1=Yanqiu+li&possible1zone=author&bool1=and&possible2=yuan+zhou&possible2zone=author&OUTLOG=NO&viewabs=JVTBD9&key=DISPLAY&docID=3&page=1&chapter=0
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