主题:【已应助】【求助】做分散染料时遇到的情况

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hyacinth_chen
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前段时间我发了一篇求助,里面提到做分散染料时质控问题(两个spot check的问题),很惭愧,到现在为止我还是找不到根本原因。

  遇到的情况是:
  打完曲线后的第一个spot check响应开始走高(>125%),到序列结束时打的第二个spot check响应更是一团糟。本来3ppm的标样,打成4~5ppm,我哭~~~~

  先介绍下这个项目的情况、:
1这个项目已经在这个实验室做了一年多,之前(09年6月中旬以前)质控都做得比较好
2标样是重新配过的,31种染料混在一起做的母液
3峰型是不错的(因为是新柱子)
4同一台仪器,另外一个项目APEO的QC做得很好,基本都是合格的

以下是我所做的和观察的

1打了曲线后马上进曲线中间点,连续8次,8次的结果并无什么变化
2柱子换了两根,但情况并无改变
3曾经曲线-空白-曲线-空白...这样打。观察空白,并无残留
3整个系统用环己烷/ACN/IPA=25:50:25彻底冲洗了一晚上,情况无改变
4观察了LC的压力线,前后并无大的改变,压力变化差不多

大家觉得,我还漏了什么没做呢????还有可能的原因会是什么呢?
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hyacinth_chen
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touristlyr
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我想你的液相系统应该是没问题的,肯能是质谱的问题。我不知道你做禁用染料用的是一级质谱还是二级质谱,我想是不是质量轴有偏差。
另外 我也做分散染料的 大家交流一下啊 不过我是waters的质谱
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Last edit by touristlyr
hyacinth_chen
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我用的是安捷伦的LCMS,MS是6100系列的
这个项目已经做了一年多了,是最近一两个月才发生的情况
真是好烦啊~
不知道怎么办~
hyacinth_chen
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着急等待~!!!
  上司给了很大的压力,而且最近犯了个大错,随时会被“咔嚓”
  如果这个问题解决不了,那我的工作就真的“冻过水啦”
  求救哇~~( ⊙o⊙ )
xhcb2007
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最近才发生的,得看看最近有什么变化么?

原文由 hyacinth_chen 发表:
我用的是安捷伦的LCMS,MS是6100系列的
这个项目已经做了一年多了,是最近一两个月才发生的情况
真是好烦啊~
不知道怎么办~
hyacinth_chen
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5月底到现在,情况一直在恶化。
本来以为柱子问题,换了,LC到MS的过滤元件也换了。
打空白,无残留现象;
如果打完曲线,然后连续不断的打曲线中间点,RSD也算合理
各位大侠,请问,我还有什么遗漏没做的地方呢???
hyacinth_chen
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对了,系统也冲了好多遍
没辙了,现在恨不得把MS全部拆开,看看究竟怎么一回事。(估计也看不到什么)
yangsophia
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不好意思,前段时间休假,才看到你的短信
我看了你论坛里的帖子和现在的描述,如果确定了不是液相、质谱、柱子的问题,而且走完标曲后连续走质控样品没有问题,那我个人认为可能为:
  样品中的其他杂质在色谱柱上或整个系统中有保留,待你进一定数量的样品后,会聚积,影响你的待测物的离子化程度(即 基质效应,不同样品很可能基质效应不同,即抑制或促进离子化的程度不同)
确定是否为此原因的办法:不断提高连续进样的个数,如进完标曲后,进2针实际样品,然后进质控样QC(最好是低、中浓度的,一有差异就看出来;就用线性中的样品就行),确定是否过;然后,进4针S后进QC,如过;再8针S后进QC,直到QC不过时为至。  这样,你就确定,每个序列进多少样比较合适。
 
  至于你之前做都可以,那现在做为什么不行?你就需要找到底是什么变化了:样品处理过程、样品处理用的溶剂、设备、甚至样品本身的变化(即样品中含的杂质不同,不同批样品经常会不同,可以用以前做的样品看看)
  如果确实是因为样品的变化而引起,使得基质效应不同,那你的样品的处理方法可能就需要改变,尽可能的出去这些杂质,或者改变色谱条件,将这些物质拉开,使其不同时出峰,这样对待测物的离子化影响就小了。
  还有,你有很31种染料,是都不过呢,还是就其中的几个?是不是保留时间小的呢?
  如果是,那你就更需要改变流动相比例条件,将其保留时间变大,与前面出来的杂质分开,这样杂质就不会影响其离子化了。
  希望这些对你有帮助,有问题还可以联系我
hyacinth_chen
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不断提高进针数,已经试过(十几针后),没有残留~
31种分散染料,糟糕时一半及格一半不及格,嗯嗯
真的很谢谢你啊~~~
不管最后问题是否能追踪到根源,你都教会了我解决问题的思路
非常感谢
hyacinth_chen
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关于说改变流动相比例,很可惜,公司是采用总公司设定的方法做,一丁点都不允许改变。
其实我看了下一直以来的峰,发现这个现象是慢慢恶化的,只是我粗心,在一开始的时候并没有重视。到现在一发不可收拾的时候才急。唉~!
原文由 yangsophia 发表:
不好意思,前段时间休假,才看到你的短信
我看了你论坛里的帖子和现在的描述,如果确定了不是液相、质谱、柱子的问题,而且走完标曲后连续走质控样品没有问题,那我个人认为可能为:
  样品中的其他杂质在色谱柱上或整个系统中有保留,待你进一定数量的样品后,会聚积,影响你的待测物的离子化程度(即 基质效应,不同样品很可能基质效应不同,即抑制或促进离子化的程度不同)
确定是否为此原因的办法:不断提高连续进样的个数,如进完标曲后,进2针实际样品,然后进质控样QC(最好是低、中浓度的,一有差异就看出来;就用线性中的样品就行),确定是否过;然后,进4针S后进QC,如过;再8针S后进QC,直到QC不过时为至。  这样,你就确定,每个序列进多少样比较合适。
 
  至于你之前做都可以,那现在做为什么不行?你就需要找到底是什么变化了:样品处理过程、样品处理用的溶剂、设备、甚至样品本身的变化(即样品中含的杂质不同,不同批样品经常会不同,可以用以前做的样品看看)
  如果确实是因为样品的变化而引起,使得基质效应不同,那你的样品的处理方法可能就需要改变,尽可能的出去这些杂质,或者改变色谱条件,将这些物质拉开,使其不同时出峰,这样对待测物的离子化影响就小了。
  还有,你有很31种染料,是都不过呢,还是就其中的几个?是不是保留时间小的呢?
  如果是,那你就更需要改变流动相比例条件,将其保留时间变大,与前面出来的杂质分开,这样杂质就不会影响其离子化了。
  希望这些对你有帮助,有问题还可以联系我
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