主题:【资料】半导体硅材料中杂质元素的分析方法

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上传了硅材料中杂质元素的分析方法国家标准——《GB4298-84 半导体硅材料中杂质元素的中子活化分析方法》,这是目前唯一能查到的与多晶硅体金属杂质分析相关的国标。

GB 4298-84半导体硅材料中杂质元素的中子活化分析方法
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原文由 小光(xsh1234567) 发表:
晕倒,。,。。。。NAA,做个样好像要N多天吧?

嘿嘿,听说是两个月左右...主要是要找反应堆辐照...
Tim
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原文由 Field_Tian(MWSpecialist) 发表:
如果用激光烧蚀加上HR-ICP-MS也可以的,有GD-MS就更简单啦


据说:LA是20多万美元,HRICPMS大约40万欧。。GDMS大约65万欧。
汗。。。做硅的,据说LA的基体和记忆效应还不小。直接上GD算了。
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2010/6/10 12:10:24 Last edit by xsh1234567
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