主题:【讨论】请教FID不点火时,硅烷化试剂或硅烷化衍生物从柱子流出时对喷嘴有什么影响?

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symmacros
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一般硅烷化衍生物或未反应完的硅烷化试剂在FID中烧结形成SiO2,对喷嘴会造成堵塞等损害。哪么FID不点火时,硅烷化试剂或硅烷化衍生物从柱子流出时对喷嘴有什么影响?大家可能要问,FID不点火就无信号而无用,这里同时安装有别的检测器测定硅烷化衍生物,不想把FID的进口断开。谢谢。
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symmacros
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原文由 安平(byron1111) 发表:
如果温度不高,应该问题不大。


谢谢。准备检测器的温度比柱子高一点,约270度,不知怎样?
安平
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棋笼千割
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阿宝
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只要进样量不是很大,就没什么问题,我经常做硅烷化处理的样品。也没有发现堵过喷嘴,不过分流口倒是因为硅烷化试剂堵过,最后捅开挺费劲的。
symmacros
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原文由 阿宝(lpr20) 发表:
只要进样量不是很大,就没什么问题,我经常做硅烷化处理的样品。也没有发现堵过喷嘴,不过分流口倒是因为硅烷化试剂堵过,最后捅开挺费劲的。


多谢提醒分流口堵塞,以前还没有考虑到这一点。
阿宝
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原文由 symmacros(jimzhu) 发表:
原文由 阿宝(lpr20) 发表:
只要进样量不是很大,就没什么问题,我经常做硅烷化处理的样品。也没有发现堵过喷嘴,不过分流口倒是因为硅烷化试剂堵过,最后捅开挺费劲的。


多谢提醒分流口堵塞,以前还没有考虑到这一点。

有一次我连续进了几针硅烷化试剂,每次进样量都比较大,2uL左右吧,结果马上分流就堵了,当时费了九牛二虎之力才弄开。教训啊!
sanan
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只要进样量不是很大,就没什么问题,我经常做硅烷化处理的样品。也没有发现堵过喷嘴,不过分流口倒是因为硅烷化试剂堵过,最后捅开挺费劲的。


多谢提醒分流口堵塞,以前还没有考虑到这一点。

有一次我连续进了几针硅烷化试剂,每次进样量都比较大,2uL左右吧,结果马上分流就堵了,当时费了九牛二虎之力才弄开。教训啊!

过量的硅烷化试剂会导致FID的灵敏度降低,因为会有二氧化硅吸附在FID的收集极使接受的离子流降低。
symmacros
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只要进样量不是很大,就没什么问题,我经常做硅烷化处理的样品。也没有发现堵过喷嘴,不过分流口倒是因为硅烷化试剂堵过,最后捅开挺费劲的。


多谢提醒分流口堵塞,以前还没有考虑到这一点。

有一次我连续进了几针硅烷化试剂,每次进样量都比较大,2uL左右吧,结果马上分流就堵了,当时费了九牛二虎之力才弄开。教训啊!

过量的硅烷化试剂会导致FID的灵敏度降低,因为会有二氧化硅吸附在FID的收集极使接受的离子流降低。


请教一下,在不燃烧的情况下,有没有SiO2形成?或者SiO2在什么情况下都可以形成?
cnb_p
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理论上来说,在不点火的情况下,一般应该不会形成SiO2,但是残留是有可能的,在高温条件下残留时间长了,会有少量SiO2的产生的,衬管就会比较难清洗,FID灵敏度也会下降
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