主题:【讨论】断面SEM 清洗与否会产生这么大区别?

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傲剑小冰
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这张是没有清洗的

这张是清洗后的。。。小生不解,为何会有这等区别
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傲剑小冰
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样品是Si衬底上长CrSi膜。。没洗的树状晶个人认为是结晶后的Si。。(经过RTA 1200度 5分钟)。。不解的是清洗后怎么变这样了。。。没洗的那条亮线也不知何解
fengyonghe
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傲剑小冰
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原文由 fengyonghe(fengyonghe) 发表:
用什么清洗的?
丙酮
huangtao0307
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原文由 傲剑小冰(zwybb) 发表:

这张是没有清洗的

这张是清洗后的。。。小生不解,为何会有这等区别


不好意思﹐先確認一下﹐制樣方式是不是切片.
一﹑未清洗前表面可能有細微顆粒或雜質.經過清洗后表面細微顆粒或雜質都沒以﹐所以圖片表面形貌會有所差別.
      從圖片上也可以看的到﹐洗清后表面確認是有少很多顆粒.
二﹑下面樓主有提到是用丙酮清洗的﹐丙酮實際上會產生輕微的蝕刻.所以清洗后的表面形貌感覺更清晰些.
三﹑至于測試數據.3.91 與3.87并沒有本質上的差別﹐這可能是由于測試人員誤差造成的.有實際測試過的人可能會
    發現﹐這個測量也不是百分百的﹐有一點差別也是很正常的.

以上個人看法﹐歡迎拍磚
该帖子作者被版主 jzhx6810积分, 2经验,加分理由:鼓励,勇敢说出自己的见解!
huangtao0307
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原文由 傲剑小冰(zwybb) 发表:
样品是Si衬底上长CrSi膜。。没洗的树状晶个人认为是结晶后的Si。。(经过RTA 1200度 5分钟)。。不解的是清洗后怎么变这样了。。。没洗的那条亮线也不知何解


另外針對亮條﹐樓主是否可以說清楚他的具體位置。其實有可以是樣品放電造成的.
傲剑小冰
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...就是不清楚那个亮条纹是什么。。。其他的数据显示有结晶硅的产生,而且是严格的晶粒取向,沿着衬底的晶向生长。如果是未清洗的样品 那上面的柱状晶正好可以做此解释,反倒是洗过的到不好说了。。。样品室拿金刚刀切的,整个样品有0.4mm厚(衬底),膜的厚度几个um且在表面,切片的话应该不至于产生很大的影响吧。。。另外上面的那层我认为是非晶成分,这也与XRD数据吻合。。。只是很不明白那个亮线,从图中可以看到是很平整的一条线。。我以前想是不是非晶跟结晶区放电不一样导致的。。但是这么整齐的线就难以解释了
fengyonghe
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回复的人不多,我是一直都没看明白哪是基体、哪是生长的膜、哪是亮线、哪是黑线。能不能用箭头标注下。
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2010/8/4 3:18:55 Last edit by fengyonghe
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