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ID:hisen007
行业:其他
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ID:liqianaaa11
ID:liuzhiwen0411
原文由 hisen007(hisen007) 发表:使用的仪器是NanoScopeDimension 3100 Controllertapping mode,scan size:10 um,scan rate 0.4 Hz样品是SiC测量很深的坑的时候,在扫描方向,坑的两侧得到的高度很高,肯定不是实际形貌,因为变换了扫描方向后还是只在扫描方向上坑的两侧出现突起。这个现象在AFM中有没有什么名称?如果消除或者减小这种现象?先谢谢各位了。
ID:shangq
ID:hitttr
ID:tomcobra998
ID:unht