主题:【求助】AFM求助:如何测量很深的坑?

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hisen007
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使用的仪器是
NanoScope
Dimension 3100 Controller
tapping mode,scan size:10 um,scan rate 0.4 Hz
样品是SiC

测量很深的坑的时候,在扫描方向,坑的两侧得到的高度很高,肯定不是实际形貌,因为变换了扫描方向后还是只在扫描方向上坑的两侧出现突起。

这个现象在AFM中有没有什么名称?如果消除或者减小这种现象?
先谢谢各位了。

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liqianaaa11
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会不会是数据处理造成的,可以把leveling关掉试试。。
liuzhiwen0411
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应该是数据处理造成的,在进行flatten处理时,应该对坑进行屏蔽处理既可以.

原文由 hisen007(hisen007) 发表:
使用的仪器是
NanoScope
Dimension 3100 Controller
tapping mode,scan size:10 um,scan rate 0.4 Hz
样品是SiC

测量很深的坑的时候,在扫描方向,坑的两侧得到的高度很高,肯定不是实际形貌,因为变换了扫描方向后还是只在扫描方向上坑的两侧出现突起。

这个现象在AFM中有没有什么名称?如果消除或者减小这种现象?
先谢谢各位了。

shangq
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hitttr
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我们在做AFM的时候,当扫描的图像中出现特别高的凸起时,
图像上凸起点的两侧会有明显的阴影,即凸起两侧显得特别低。
当测量到特别深的凹坑的时候,凹坑的两侧则会显得特别的高,其图像亮度特别亮。
这都是由于图像平整化造成的(Flatten)假象。
要消除这种影响,只需要对原始的扫描图像进行离线处理即可。
处理方向如下(以Nanoscope 6 版软件为例):
1. 点击软件“Flatten”按钮,进入图像平整化处理界面
2. Flatten Order 一般选择2或者3即可。
3. 在图像上用鼠标拉框,将特别高或者特别低的地方圈起来,可以框选多个位置。
4. 点击"Exe cute"执行即可。

在步骤3中,Nanoscope 5版的软件,可框选的数目是有限的,如果图像上有很多高点或低坑的时候,可能无法完全框选,
并且逐个款选非常麻烦。这时候则需要用到另外一个功能,即“Flatten Z threshhold”
该选项的功能是在做平整化计算的时候,将特别高的凸起点或特别深的凹坑排除在外,这个就得到的结果就不会有假象了。
具体的使用方法请参看软件的说明书吧。
tomcobra998
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unht
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