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红外光谱（IR）

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主题：【讨论】硅片中碳氧含量的测试

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slenna

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发表于：2010/10/08 15:43:56 楼主管理分享倒序浏览只看楼主回复私聊

我想了解一些，关于硅片中碳氧含量测试的问题。希望做过相关工作的大侠们指点指点！！
问题例如自己做的碳氧含量有多少？硅片做什么用等等！！
期待大家的回答啊！！

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2010/10/8 16:46:55 沙发管理分享倒序浏览只看楼主回复私聊

这个有国家标准，参考国家标准做就可以。有专门的红外光谱仪测试就可以。
要求测试试样经双面研磨/单面抛光/双面抛光（机械/化学抛光）硅晶片均可。要求试样在室温下电阻率＞0.1Ω.cm,试样的厚度范围为2.00mm—3.00mm。
参样要求：参样的厚度约为2.00mm，双面抛光呈镜面，并且参样中的氧、碳含量均小于1×1016 cm-3。
对于低碳含量样品,多个实验室测量碳含量精密度，按照“硅中代位碳含量的红外吸收测量方法”国家标准(GB/T 1558-1997)

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2010/10/8 16:53:08 Last edit by ghcily

happyalife

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2010/10/8 17:00:41 板凳管理分享倒序浏览只看楼主回复私聊

有具体的标准内容么？

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fyrebecca

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2010/10/8 20:06:47 马扎管理分享倒序浏览只看楼主回复私聊

一般的FTIR 就可以阿，需要买ASTM标准硅片，这个标准片很贵，前几年我们去询过价钱，好像是2500美金一片，一般要买个三片以上吧，后来项目变动，就没买了

原文由 kingber(kingber) 发表:
这个有国家标准，参考国家标准做就可以。有专门的红外光谱仪测试就可以。
要求测试试样经双面研磨/单面抛光/双面抛光（机械/化学抛光）硅晶片均可。要求试样在室温下电阻率＞0.1Ω.cm,试样的厚度范围为2.00mm—3.00mm。
参样要求：参样的厚度约为2.00mm，双面抛光呈镜面，并且参样中的氧、碳含量均小于1×1016 cm-3。
对于低碳含量样品,多个实验室测量碳含量精密度，按照“硅中代位碳含量的红外吸收测量方法”国家标准(GB/T 1558-1997)

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