主题:【讨论】钢样中0.010%左右硅为何不同家测定值差异这么大

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waydn1111
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含量是有点低啊,正好是国标GB/T 20125-2006的下限
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2011/7/11 12:43:14 Last edit by waydn1111
bigbighead
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我认为,ICP和ICPMS做0.01%的含量应该都可以,但是样品处理非常重要:
(1)使用的器皿很重要;
(2)使用的酸、水的空白值要尽量低
(3)注意环境的影响;
如果空白控制不好,ICP、ICPMS都没用。
建议,空白和样品都做平行样,并用标准钢样做,看准确度如何,注意低碳钢、中碳钢、碳钢、铸铁等样品,样品处理的影响可能也会不一样。
坛里是否有钢厂做检测的,请他们来说说。
hunk
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建议你送到研究所测测试试-----比如核工业230研究所---测硅真的很讲究的,最好不要用ICP-OES来测。
Jason-lee
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原文由 云飘西风落(denx5201314) 发表:
不知道是否溶液在石英瓶中放置1晚有影响,还是方法之间有偏差,结果和以前测定的高出很多。
Jason-lee
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原文由 lilongfei14(lilongfei14) 发表:
原文由 云飘西风落(denx5201314) 发表:
不知道是否溶液在石英瓶中放置1晚有影响,还是方法之间有偏差,结果和以前测定的高出很多。


放在石英瓶已经很不错了


石英瓶也可能会有影响,空白确实很难控制,我们现在使用的纯水机过程中通常会用到硅小柱,所以仅仅是水的空白都可能很高。我们现在会用分光光度法的结果和ICP的结果进行比较,一般要结果平行才会出具。ICP-MS拿来测试这么高的Si,你们的MS实在是用得很高调,我们的MS现在还在保修期,我都不敢这么的用。
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