主题:【讨论】能力验证:IQTC11C01(15楼有样品处理方法)

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晕呼呼
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这家的涂层标样一般都有好几个,但就是不知道会不会在能力验证的时候发多个样品出来,只是自我感觉可能性很小,看看往年记录,CNAS网站总结的时候都是只有一个值的。
christ28930456
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原文由 yuxinbugan(yuxinbugan) 发表:
这家的涂层标样一般都有好几个,但就是不知道会不会在能力验证的时候发多个样品出来,只是自我感觉可能性很小,看看往年记录,CNAS网站总结的时候都是只有一个值的。

应该没有两个样的可能,有朋友说已经打听到了此次能力验证喷油的地方,我个人觉得没有必要怀疑,如果是两个样的话,他们肯定会列出A样和B样的,大家根据自己做的数据事实报吧,不过也参考一下大多数实验室的意见也可以,我今天就已经传真过去了,而且已经把原件和原始记录邮递了,我报的是120多
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2011/4/28 22:15:20 Last edit by christ28930456
christ28930456
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原文由 damoguyan(damoguyan) 发表:
今天的四组数据出来了,很平行,137-141。两组热板两组微波。用XRF扫描了一下取下的整片涂层样品,为146PPM。
最普通的消解过程,称量0.1克,只加硝酸,分别定容25和50毫升。没有彻底消解,肯定会有残渣。
QC和spike都正常,应该没有系统偏差,还是感觉没有污染和系统偏差的情况下,应该报大的,呵呵。
大家都说说自己的情况吧,打算报什么数据?


你是内标还是外标?内标法值会比外标法高10ppm左右,因为样品溶液和标液基体中Y存在3-4%强度差别(看Y元素强度变化),外标法未消除掉这个因素的影响,哪个方法选CPSC-CH-E1003-09的啊?是不是这样的情况?
你只称取了0.1g样品,定容至50mL,液体浓度肯定很低,倍数太大,一点点变动就会造成很大的变化,个人觉得137-141太高了,据我和其他几家的实验室沟通,他们做的都是110多,接近120PPM,这样和你的比较的话相差就太大了
christ28930456
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准备报多少?大家?
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2011/4/28 22:35:14 Last edit by christ28930456
cuijl
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我们做了五组,结果在125至130之间。
由于做得匆忙,没有考虑到沉淀的影响,也没时间再做了。
好像大家对沉淀处理不处理影响不是很悬殊。我也稍稍放点心。
damoguyan
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原文由 cuijl(cuijl) 发表:
我们做了五组,结果在125至130之间。
由于做得匆忙,没有考虑到沉淀的影响,也没时间再做了。
好像大家对沉淀处理不处理影响不是很悬殊。我也稍稍放点心。


我基本确定沉淀没什么关系,不含铅。
guoguomi
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铝会对220产生负干扰?有的说有铝干扰,不大明白(铝是会影响整个基体的激发效率,但内标法可以消除),220峰反正很漂亮,但外标法220的值比283的值小8-10ppm,内标法220的值比283小5-6ppm,如果说铝有干扰的话,只能是负干扰,还真没见过,220附近貌似并没有铝的谱线,如果是基体中的铝,内标法应该可以消除。。。
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2011/4/29 9:10:29 Last edit by guoguomi
guoguomi
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原文由 guoguomi(guoguomi) 发表:
铝会对220产生负干扰?有的说有铝干扰,不大明白(铝是会影响整个基体的激发效率,但内标法可以消除),220峰反正很漂亮,但外标法220的值比283的值小8-10ppm,内标法220的值比283小5-6ppm,如果说铝有干扰的话,只能是负干扰,还真没见过,220附近貌似并没有铝的谱线,如果是基体中的铝,内标法应该可以消除。。。


我是用ICP-OES做的。
说铝有干扰的是不是用原子吸收做的??
zhangyingfu138
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我们实验室Pb的能力验证一直还不错,这次发现和前面几个同行的数据差不多,居然数据还有完全相同的,有底了!
guoguomi
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有Al220.467这个谱线,但离pb220.353太远,只要是台正常的ICPOES就不会被干扰
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