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cherry_dan
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发表于：2011/07/14 21:10:07 楼主 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
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【序号】： 1

【作者】： Albert G. Nasibulin, Esko I. Kauppinen,* David P. Brown, and Jorma K. Jokiniemi

【题名】： Nanoparticle Formation via Copper (II) Acetylacetonate Vapor Decomposition in the Presence of Hydrogen and Water

【期刊】： J. Phys. Chem. B,
【年、卷、期、起止页码】： 2001, 105 (45), pp 11067–11075
【全文链接】： http://pubs.acs.org/doi/abs/10.1021/jp0114135


【序号】： 2

【作者】： Hyungsoo Choi* and Sung-Ho Park†

【题名】： Seedless Growth of Free-Standing Copper Nanowires by Chemical Vapor Deposition

【期刊】： J. Am. Chem. Soc.,
【年、卷、期、起止页码】：2004, 126 (20), pp 6248–6249
【全文链接】： http://pubs.acs.org/doi/abs/10.1021/ja049217%2B


【序号】： 3

【作者】： Pratibha L. Gai*† and Mark A. Harmer

【题名】： Surface Atomic Defect Structures and Growth of Gold Nanorods

【期刊】： Nano Letters,
【年、卷、期、起止页码】： 2002, 2 (7), pp 771–774
【全文链接】： http://pubs.acs.org/doi/abs/10.1021/nl0202556


【序号】： 4

【作者】： Akiko Kobayashi, Atsushi Sekiguchi and Osamu Okada

【题名】： Deposition Rate and Gap Filling Characteristics in Cu Chemical Vapor Deposition with Trimethylvinylsilyl Hexafluoro-acetylacetonate Copper (I)

【期刊】： Jpn. J. Appl. Phys.
【年、卷、期、起止页码】：  37 (1998) pp. 6358-6363 

【全文链接】： http://jjap.jsap.jp/link?JJAP/37/6358/

【序号】：5 【作者】： Atsushi Sekiguchi, Akiko Kobayashi, Tomoaki Koide, Osamu Okada and Naokichi Hosokawa 【题名】： Reaction of Copper Oxide and β-Diketone for In situ Cleaning of Metal Copper in a Copper Chemical Vapor Deposition Reactor【期刊】： Jpn. J. Appl. Phys.
【年、卷、期、起止页码】： 39 (2000) pp. 6478-6486 【全文链接】： http://jjap.jsap.jp/link?JJAP/39/6478/
推荐答案：wangshirf回复于2011/07/14
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2011/7/14 21:47:14 马扎 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
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2011/7/14 21:49:02 地毯 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
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