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主题：【已应助】ICP-MS双电荷离子如何控制

浏览0 回复7 电梯直达
阶前尘
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发表于：2011/08/17 16:03:32 楼主 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
上一次做了一批基体很复杂样，这次要做水样，所以决定清洗一下锥和矩管，打磨一下透镜系统，然后吹干装上，点火，调谐，发现其他都还好，就是双电荷百分比居高不下。我尝试调了采样深度，偏转电压，还是不行啊，战友们这什么情况啊？
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2011/8/17 21:31:47 沙发 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
很不幸，我最近也遇上这问题。同求解...
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古道西风瘦马
handc
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2011/8/18 0:37:18 板凳 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
双荷百分比，主要的影响因素是在plasma部分。尝试下功率，矩管位置吧。
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金水楼台先得月
albert800922
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2011/8/18 13:42:24 马扎 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
功率,怎么调试呢。
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timstoicpms
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2011/8/18 15:49:04 地毯 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
RF功率太高、采样深度太小(即炬管 距离 样品锥很近)，都会导致双电荷率飙升。

我的实践经验：RF=1300-1350W，采样深度=5.0-5.5 mm。
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阶前尘
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2011/8/18 16:23:42 地板 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
原文由 timstoICPMS(timstoICPMS) 发表:
RF功率太高、采样深度太小(即炬管 距离 样品锥很近)，都会导致双电荷率飙升。

我的实践经验：RF=1300-1350W，采样深度=5.0-5.5 mm。


不同厂家的仪器参数也不一样的
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2011/8/18 16:42:12 6楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
原文由 阶前尘(jieqian1211) 发表:
不同厂家的仪器参数也不一样的


我也是7700x 。安捷伦工厂默认使用屏蔽圈，如果采样深度太近，屏蔽圈悲剧的概率就越大。所以工厂推荐采样深度=8mm，并提高RF功率来补偿“因采样深度较大而带来的灵敏度下降”。
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xue1bo
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2011/8/25 16:04:56 7楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
呵呵RF功率，等离子体流速，雾化器流速可以控制双电荷与氧化物。
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2011/8/29 13:49:51 Last edit by jieqian1211
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