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主题：请教有机合成中的小空间位阻的氨基保护剂,及其脱保护条件,谢谢

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zhong82513
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发表于：2006/03/22 22:02:00 楼主 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
问题已解决谢谢帮助!!!!!!!!!!!!!!
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2006/3/23 16:58:00 沙发 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
可以看看《有机合成中的保护基》这本书，挺不错的，如果需要联系我
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zhong82513
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2006/3/24 18:11:00 板凳 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
谢谢上面的朋友给予提示,我找到了这方面的书了,看到了很多氨基保护方法,很受启发.
    我考虑了一下也查了些资料,对于2-氨基-3-羟基吡啶我保护氨基以后对羟基进行反应,得到产物后再氨基脱保护.然而我找到了这样的硝基还原成氨基的反应:2-硝基-3-羟基吡啶不用保护了,直接对羟基进行反应,完了后用亚硝酸钠还原硝基为氨基.
    这样做好象更简单了?不知道这个方法可行么,想和大家讨论下.谢谢
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w58404003
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2008/2/11 13:28:27 马扎 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
嗯
我想要那一本書
可以給我嗎
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wlh1116
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2010/5/7 11:52:12 地毯 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
原文由 (sterlingyang) 发表:
可以看看《有机合成中的保护基》这本书，挺不错的，如果需要联系我


我想知道，如果Lys侧链氨基用BOC和DDE保护，脱保护的具体条件和步骤是什么？
还有Asp的侧链羧基如果用OTBu保护，具体怎么脱保护？
能把这本书发给我看一下吗？
非常感谢！
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