主题:【第六届原创】程序升温空白出现鬼峰的案例分析

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安平
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GCMS-QP2010 Ultra 程序升温空白出现鬼峰案例分析




故障现象:
GCMS使用较长时间后,运行程序升温空白(不进样启动程序升温),在固定的保留时间出现鬼峰。



空白测试得到
色谱图如下:





7.6min出现较强的鬼峰,观察此处的质谱棒图,发现此处m/z=128的碎片较强,检索判定为萘。



恒温分析时,并不出现此鬼峰。
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安平
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故障原因的判定:




  类似于HPLC梯度洗脱空白的鬼峰,该故障常见的原因是流动相的污染(即载气的污染)
污染源重点要去怀疑进样口和进样口附属管路。




  SPL的结构图:








首先值得怀疑的是载气管路的分子筛管。分子筛管内填充了较多分子筛颗粒,表面积极大。载气在进入进样口之间,先通过分子筛净化,如果载气不良,或者仪器使用时间超长,分子筛吸附杂质饱和,分子筛就变成了污染源。

理论上讲,污染物比较有可能在表面积较大的部分富集。

        分子筛图片

       



其次,分流出口的缓冲管、捕集阱也有污染的可能。



    分流出口的缓冲管和捕集阱,在使用过程中也不断的在吸附杂质,也有可能带来污染。进样的时候,样品受热膨胀,可能会将缓冲管中凝结的污染物回带给进样口。




      捕集阱的图片

     
安平
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  处理的方式:
   
  清洁处理分子筛管。
  用溶剂清洗缓冲管及连接管路。若果需要,再高温处理一下。
  
    捕集阱一般需要更换。
  
  
    工程师现场一般采用火焰灼烧的方法,比较快速。分子筛耐温600度,一般的火焰不会造成分子筛破坏。
  
    将SPL进样口设定为直接注入方式、恒流量控制,输入大约30ml/min流量,用酒精灯灼烧管路。
   
    色谱仪流量界面:

         

   

如果系统较脏,在灼烧分子筛管和缓冲管的时候,可以看到出口有烟雾流出。



      灼烧分子筛管图片:

     



    反过来再说一点,空白的测试方法。



        不进样启动程序升温,或者是进样空气?有一点差异。



        进样空气(进样数微升的空气即可)出现鬼峰,不进样启动程序升温的时候没有鬼峰。这种情况下,污染物可能在分流出口管路中。



        高温处理后,进样测试,发现第一次空白测试时,鬼峰的保留变短。幅度可能会增大。

       



再次进行几个空白程序升温,鬼峰明显减小。如图

       

安平
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  污染来源的推测:
  
      分子筛吸附的杂质可能与载气有关。

          分流出口的污染物可能来源于样品。随着进样过程进入色谱柱。

  
      另外:m/z=149的鬼峰也比较常见,怀疑与邻苯二甲酸酯类有关系。消除的方法比较类似。
  
                m/z=149碎片的物质可能来源于环境中增塑剂类物质的污染。
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2012/8/21 22:39:57 Last edit by byron1111
symmacros
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鬼峰有时候很难判断,楼主这个案例分析写的很好,值得借鉴。
symmacros
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萘和邻苯类是很容易污染系统,有时候很顽固,特别是极性柱子更容易残留。
安平
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多谢。

萘的来源比较可疑,是载气、样品还是环境呢?
daidai1985
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想问一下楼主,第一张图后面基线出现漂移,是怎么回事儿呢?是不是正常现象呢?
安平
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基线漂移是程序升温时,色谱柱本底信号逐渐增强的信号。


  只要漂移幅度不太大,一般是正常的。
noob
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symmacros
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将SPL进样口设定为直接注入方式、恒流量控制,输入大约30ml/min流量,用酒精灯灼烧管路。

请问楼主,直接注入方式(direct)是什么意思?是用酒精喷灯吗?
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