主题：【讨论】雾化气压力(流量)是如何影响发射强度和背景强度的？

原文由 砂锅粥(czcht) 发表:

原文由 依风1986(xurunjiao5339) 发表:

原文由 砂锅粥(czcht) 发表:

原文由 依风1986(xurunjiao5339) 发表:

原文由 砂锅粥(czcht) 发表:

原文由 依风1986(xurunjiao5339) 发表:

原文由 砂锅粥(czcht) 发表:
按道理来说雾化器压力越大，进入等离子体的样品就越多，绝对强度会越大，但是由于各元素的差异，雾化器压力太大会导致背景和待测元素的绝对强度变大不一样，所以当雾化器压力比较大时，净强度反而变小。不知理解得对不对？

就像楼主之前谈论下您的ICP雾化压力是250PSI（记得不清楚），而我们厂家工程师直接给我们调到200PSI，雾化器压力或流量的选择也是条件优化一个很重要的方面 。看到有这样解释的，不知道楼主您可否有切身体会;气体流量的优化也是很有用的。可能大部分使用者多在使用仪器厂商推荐的条件而忽略了其优化。
载气流量对测量的影响较大，而冷却器和辅助气的影响较小（相对而言，冷却气的影响大一点）所以有些仪器的辅助气流量极低。
载气流量对信背比有一个最佳值。开始时，载气流量加大，进样量增多，进入ICP的量自然多，谱线强度增大，信背比会提高。但过了一定值后，载气再加大，速度太快，使进入ICP的粒子来不及激发而冲出ICP，同时流量过大的载气也使ICP温度降低。这样发射强度也会降低，信背比也变差。

我们是230KPa左右效果是比较好的，太低或者太高都会导致净强度降低。一般厂家是建议200，新的仪器在200左右应该是比较合适的，由于我们的仪器用久了，压力表不准确，加上雾化器雾化效果可能没有新的那么好，所以230是比较合适的。

其实换了雾化器或者清洗雾化器之后最好都进行一下优化，调到比较合适的压力值，对提高灵敏度有一定的好处。

您的这个解释应该更加合理。

另外，瓦里安仪器的雾化器压力默认的200，单位应该是KPa，PSI跟KPa应该不一样吧？

谢楼主提醒啊！的确是记错单位了，呵呵！

瓦里安的雾化器压力表上面确实有psi的，但是200对应的psi应该是29psi左右。

但是200对应的psi应该是29psi左右。看来楼主也搞混了啊！

那应该是多少？200KPa不是=29psi吗？