原文由 ghostermen(ghostermen) 发表:原文由 桌子下面少个八(tianyamingye) 发表:原文由 ghostermen(ghostermen) 发表:
光源不同,连续光源用XE灯,普通光源用HCL,连续光源做火焰测的快啊,一次进样可以测出很多元素,扣背景也好,准确度跟普通原吸一样的。
一次进样可以分析多种元素吗?
各元素的分析条件除了波长不一样,气体流量和燃烧头高度也不同,是怎么样解决这些参数变量的?
火焰法可以,扣背景用的邻近波长,因为仪器分辨率很高,0.02nm,现在的仪器气体流量,燃烧头高度全是电脑控制,换个波长后调下参数不就秒钟的时间?
原文由 夕阳(anping) 发表:原文由 ghostermen(ghostermen) 发表:原文由 桌子下面少个八(tianyamingye) 发表:原文由 ghostermen(ghostermen) 发表:
光源不同,连续光源用XE灯,普通光源用HCL,连续光源做火焰测的快啊,一次进样可以测出很多元素,扣背景也好,准确度跟普通原吸一样的。
一次进样可以分析多种元素吗?
各元素的分析条件除了波长不一样,气体流量和燃烧头高度也不同,是怎么样解决这些参数变量的?
火焰法可以,扣背景用的邻近波长,因为仪器分辨率很高,0.02nm,现在的仪器气体流量,燃烧头高度全是电脑控制,换个波长后调下参数不就秒钟的时间?
阴极灯的发射谱线半峰宽为0.0005nm,连续光源的给出的谱线宽度为0.02nm(似乎是0.002nm),两者谱线的带宽的差距还是不小吧?
原文由 ghostermen(ghostermen) 发表:原文由 夕阳(anping) 发表:原文由 ghostermen(ghostermen) 发表:原文由 桌子下面少个八(tianyamingye) 发表:原文由 ghostermen(ghostermen) 发表:
光源不同,连续光源用XE灯,普通光源用HCL,连续光源做火焰测的快啊,一次进样可以测出很多元素,扣背景也好,准确度跟普通原吸一样的。
一次进样可以分析多种元素吗?
各元素的分析条件除了波长不一样,气体流量和燃烧头高度也不同,是怎么样解决这些参数变量的?
火焰法可以,扣背景用的邻近波长,因为仪器分辨率很高,0.02nm,现在的仪器气体流量,燃烧头高度全是电脑控制,换个波长后调下参数不就秒钟的时间?
阴极灯的发射谱线半峰宽为0.0005nm,连续光源的给出的谱线宽度为0.02nm(似乎是0.002nm),两者谱线的带宽的差距还是不小吧?
连续光源的分辨率是0.002nm,没明白楼上的问题是什么!
原文由 ghostermen(ghostermen) 发表:原文由 夕阳(anping) 发表:原文由 ghostermen(ghostermen) 发表:原文由 桌子下面少个八(tianyamingye) 发表:原文由 ghostermen(ghostermen) 发表:
光源不同,连续光源用XE灯,普通光源用HCL,连续光源做火焰测的快啊,一次进样可以测出很多元素,扣背景也好,准确度跟普通原吸一样的。
一次进样可以分析多种元素吗?
各元素的分析条件除了波长不一样,气体流量和燃烧头高度也不同,是怎么样解决这些参数变量的?
火焰法可以,扣背景用的邻近波长,因为仪器分辨率很高,0.02nm,现在的仪器气体流量,燃烧头高度全是电脑控制,换个波长后调下参数不就秒钟的时间?
阴极灯的发射谱线半峰宽为0.0005nm,连续光源的给出的谱线宽度为0.02nm(似乎是0.002nm),两者谱线的带宽的差距还是不小吧?
连续光源的分辨率是0.002nm,没明白楼上的问题是什么!