主题：【讨论】目前使用的重叠校正方法是否有缺陷？

原文由 chemchenxj(chemchenxj) 发表:

原文由 老头(shguan) 发表:

原文由 chemchenxj(chemchenxj) 发表:

原文由 老头(shguan) 发表:
先要搞清楚什么是重叠校正吧。它是校正什么的。

这里只讨论谱线的重叠（Line Overlaps），就是使用的谱线附近有其他元素的谱线，实际测量的强度中包含被测谱线的强度和邻近谱线的强度，应该设法减去后者
为了便于理解，暂不考虑第三元素干扰（Interelement Effect 或者叫Matrix Effect）

shguan老师您觉得从物理意义上说，应该先计算强度比，再进行重叠校正；还是先进行重叠校正再计算强度比呢？
是目前使用的重叠校正方法有瑕疵，还是我自己理解的有问题呢？欢迎老师指教！

Line Overlaps  应当怎么翻译呢？你将它翻译为重叠是从哪里看到的？国人翻译的吧！我同意大家的意见，先讨论数学模型。那些洋泾浜的翻译会给人好多误导。可能当时自己还没有搞清楚就敢写书了。还是先讨论所谓的Line Overlaps的数学模型为好。不然您搞清楚了，我们还是糊涂。

把这个讨论清楚了，中国懂直读理论的人就更多了。其实很多人都是模模糊糊的，好像明白了。我也是。我的英文不好，吃亏呀。老头

在原子发射光谱分析中，干扰效应算是最复杂的问题之一了，要是严格考究的话，专门写本书也不为过。

原子发射光谱分析法中干扰效应的分类方法本身就容易导致混淆，依其机理，一般可分为非光谱干扰和光谱干扰，非光谱干扰又可分为化学干扰、电离干扰、物理干扰等；光谱干扰又包括背景辐射干扰和谱线重叠干扰等等，其中背景辐射还能分为几种情况，总之，干扰是很复杂的。

这里只讨论简单的情况，比如就以钢铁或者钛合金中铝对碳的干扰为例，一般都使用C 193.090nm波长分析碳元素，但铝元素有Al 193.003nm谱线，与碳的分析谱线很接近，Al 193.003nm对C 193.090nm产生了重叠干扰。

对于这种情况，目前的直读光谱仪使用的是最简单的数学校正模型：IR=IR₀-Σ（F_i*C_i），即都是先用碳的绝对强度除以参比线的绝对强度得到碳的相对强度IR₀，然后校正后的碳相对强度IR=碳的相对强度IR₀-校正系数F*铝的浓度C_Al。
从物理意义理解的话，应该这样：校正后的碳的相对强度IR=（测得的碳绝对强度-因铝干扰而增加的绝对强度）/参比线的绝对强度，即先扣除重叠干扰的强度再计算相对强度，而不是先计算相对强度再进行重叠干扰校正。

不知道这样表述清楚了没有，希望能得到shguan老师的指导！

原文由 老头(shguan) 发表:
您的意思是先校正光强的干扰？我看这个问题讨论不起来呀！没几个人参与。那就没意思了。老头

原文由chemchenxj发表：

原文由 老头(shguan) 发表:
您的意思是先校正光强的干扰？我看这个问题讨论不起来呀！没几个人参与。那就没意思了。老头

是的，我觉得应该是先校正光强的干扰，再计算相对强度
虽然两种校正模型的结果没多大差别，但物理意义是不一样的

shguan老师，您觉得应该是怎样的呢？