主题:【已应助】关于液质基线高

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gut
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现在在做一个分子量较小的硫酸酯分析,发现基线非常高。在这里问一下,看是否能有网友帮忙分析解决一下。

仪器是Shimadzu lc-20 + AB qtrap 4000,ESI源,MRM模式,使用的流动相是加了甲酸的水与乙腈,采用MW->97(高)和MW->80,分别是SO4H-和SO3H-的峰,这里见谅把母离子隐去。

不接柱子,使用两通,使用相同的水(屈臣氏蒸馏水过滤),如果不加甲酸,MW->97基线(红色)在500-800左右(图1),加入甲酸的话升到4000左右(图2),那条蓝色的是MW->80。甲酸应该没有问题,请问这可能是什么原因?会不会是因为下面我说的orifate plate上的黄色东西的原因?还是因为整个液相体系不干净的原因?还是流动相的原因?而且在以前最好的时候可以达到200左右。



图1



图2

我还发现orifate plate上有非常多的黄色物质,我用无尘纸沾异丙醇,水,甲醇洗,洗不掉,我们平时做血尿等样品比较多,是不是这些基质留下来的(图3,4)?这个能擦掉么?



图3



图4

而且,人血尿中还有非常多的硫酸酯泪,那么如果这个黄色物质里包裹者一些含有硫酸酯一类的东西,使用含有酸的流动相会不会让结果中的基线升高?

最近因为这个基线问题,捣鼓一个月了,问题比较多,谢谢了!
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八杯水
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yzulcl
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Agilent的这个锥是可以拆下来打磨的(千万别在机器上原位打磨,会出大事的)。
用的是一种很高目数的砂纸(具体多少目数不知道,没问过工程师),反正手摸上去完全感觉不到一丝一毫的粗糙感,是随仪器原配的。

打磨过以后,用溶剂多超声几次,确保没有颗粒残留,然后擦干净就可以装回去了。
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小丶风
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那个黄色的能抹掉,不知道你们有没有安捷伦的气质,用安捷伦的打磨砂纸就行
不过这个貌似影响不是特别大,我们的也是这样的,高温烤的。。
也可以用金属抛光剂来磨掉它,不过磨完了需要用正己烷泡掉,因为抛光剂是油性的
你可以给质谱调谐下,看看是不是仪器脏的原因,PPG调谐Q1和Q3,运行时间设置5min左右,看总离子流是否呈现往下掉的趋势,如果TIC一直是直线,能够说明质谱不脏,如果TIC图呈下降趋势,说明四级杆有污染、、、该清洗了
另外,基线这么高,看下离子源喷雾针部分是否有蓝色电火花,看看是否离子源放电了,如果放电了,好好清洗下离子源。

我们用的3200,据工程师说4000的oriface开孔比较大,四级杆是比较容易脏的

不知道你运行别的项目基线怎么样,有可能你这个物质的响应值就是低,所以基线高。

总之,先排除质谱的问题,质谱没有问题,再找找液相部分,包括你优化出来的离子对是否有问题。

目前只能想到这么多。。。
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2014/6/27 10:53:28 Last edit by yujianlin
jiangshi1943
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看来甲酸能把残留冲出来,如果没有砂纸打磨的话,可以拆下来甲酸水超声洗洗,再水洗,甲醇洗
gut
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谢谢!

原文由 yzulcl(yzulcl) 发表:

Agilent的这个锥是可以拆下来打磨的(千万别在机器上原位打磨,会出大事的)。
用的是一种很高目数的砂纸(具体多少目数不知道,没问过工程师),反正手摸上去完全感觉不到一丝一毫的粗糙感,是随仪器原配的。

打磨过以后,用溶剂多超声几次,确保没有颗粒残留,然后擦干净就可以装回去了。
gut
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谢谢!

原文由 小丶风(yujianlin) 发表:

那个黄色的能抹掉,不知道你们有没有安捷伦的气质,用安捷伦的打磨砂纸就行
不过这个貌似影响不是特别大,我们的也是这样的,高温烤的。。
也可以用金属抛光剂来磨掉它,不过磨完了需要用正己烷泡掉,因为抛光剂是油性的
你可以给质谱调谐下,看看是不是仪器脏的原因,PPG调谐Q1和Q3,运行时间设置5min左右,看总离子流是否呈现往下掉的趋势,如果TIC一直是直线,能够说明质谱不脏,如果TIC图呈下降趋势,说明四级杆有污染、、、该清洗了
另外,基线这么高,看下离子源喷雾针部分是否有蓝色电火花,看看是否离子源放电了,如果放电了,好好清洗下离子源。

我们用的3200,据工程师说4000的oriface开孔比较大,四级杆是比较容易脏的

不知道你运行别的项目基线怎么样,有可能你这个物质的响应值就是低,所以基线高。

总之,先排除质谱的问题,质谱没有问题,再找找液相部分,包括你优化出来的离子对是否有问题。

目前只能想到这么多。。。
lzhwin
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gut
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问题就是这个硫酸酯这样。

其它的物质没什么问题。

原文由 lzhwin(lzhwin) 发表:

问一下,测别的物质(离子对)也会这样吗?
小猪飞飞
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是否跟该物质的MRM离子对有关?分子量过低,本身就容易受到较大的干扰
imozi
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脏了,用酸基线升高,可以试试用加酸的水洗,当然先电话咨询工程师
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