我是一名研究生,使用分子束外延设备制备薄膜。国内拥有此设备的地方不多,但其发展呈上升趋势。所以,我想创建桓鲂掳妫璏BE(分子束外延)版,不知道怎样才能创办。
创办这个版,目的有以下两点:
1、有关MBE设备、及相关书籍、文章在国内还不是那么多,所以在此创
办一个MBE版,可以使所有使用过MBE或对MBE有兴趣的人拥有一个交
流的平台;
2、在此我们可以互相学习,共同研究,促进MBE在国内的发展。
以下是引用的有关MBE的简单介绍及简要回顾:
分子束外延(Molecular Beam Epitaxy)技术在现代超导薄膜(YBCO、BSCCO等)、半导体物理、器件以及GaAs工业发展中起着十分关键的作用。 回顾分子束外延的发展历史,它始终追求的是应用目标,把原子一个个地排列起来,同时将几种不同组分的材料交替地生长,而每种材料的厚度小于电子的平均自由程(<100nm),两种不同材料之间的界面平整度在单个原子水平上,重复周期在100次以上,这需要很高的技术。是什么力量促使人们不断完善这一技术,使它成为当今信息产业发展的一项重要技术呢?这得从诺贝尔物理学奖获得者江崎与美籍华人朱兆祥提出的半导体超晶格理论说起,他们设想,如果
将两种晶格匹配得好的半导体材料A和B交替生长,则电子沿生长方向( Z 方向)的连续能带将分裂成几个微带。 从而改变了材料的电子结构,他们预言在这种人造材料中可能出现若干新的现象与效应,从而出现了人们常说的能带工程(或能带裁剪),1970 年—2006 年期间,超晶格、继而低维及小量子
系统的物理器件的长足发展均与分子束外延以及有机金属
气相淀积技术的发展息息相关) 在此期间,分子束外延技术走向成熟,有若干技术上的突破。
希望仪器信息网的论坛能给我这个机会,我会把这个版创办好的。谢谢!