主题：【讨论】雾化气压力(流量)是如何影响发射强度和背景强度的？

原文由 千层峰(jxyan) 发表:

原文由 依风1986(xurunjiao5339) 发表:

原文由 千层峰(jxyan) 发表:

原文由 依风1986(xurunjiao5339) 发表:

原文由 千层峰(jxyan) 发表:
雾化气压力过大或过少都会影响雾化效果，从而影响进入矩管的样品量

是的，不过有个最佳平衡点

默认值基本是适用的。。。

默认是适用的，但不是最佳的

不用默认值，那调整就要凭经验了。。。

原文由 beyond1977(xsh6743) 发表:
压力大雾化产生雾滴细，同样进入炬管的绝对样品量就少了，样品强度就会偏小。压力小，雾化效果差，但是产生的雾滴就相对较大，同样进入炬管的绝对样品量就多了，样品强度就会更大，相应基体也会更大，这时如果测试些低含量的稳定性就会差很多，所以通常按厂商推荐压力即可，根据样品进行适量调节

原文由 beyond1977(xsh6743) 发表:

压力大雾化产生雾滴细，同样进入炬管的绝对样品量就少了，样品强度就会偏小。压力小，雾化效果差，但是产生的雾滴就相对较大，同样进入炬管的绝对样品量就多了，样品强度就会更大，相应基体也会更大，这时如果测试些低含量的稳定性就会差很多，所以通常按厂商推荐压力即可，根据样品进行适量调节

原文由 爆发吧，小宇宙(yw0108) 发表:
每个元素最佳压力是不一样的，不过企业实验室没那个精力搞这些。不过可以再有空的时候先优化下，条件记录下来，针对个别样品还是可以试下的。

原文由 beyond1977(xsh6743) 发表:

压力大雾化产生雾滴细，同样进入炬管的绝对样品量就少了，样品强度就会偏小。压力小，雾化效果差，但是产生的雾滴就相对较大，同样进入炬管的绝对样品量就多了，样品强度就会更大，相应基体也会更大，这时如果测试些低含量的稳定性就会差很多，所以通常按厂商推荐压力即可，根据样品进行适量调节

原文由 windy(v2650594) 发表:

原文由 beyond1977(xsh6743) 发表:

压力大雾化产生雾滴细，同样进入炬管的绝对样品量就少了，样品强度就会偏小。压力小，雾化效果差，但是产生的雾滴就相对较大，同样进入炬管的绝对样品量就多了，样品强度就会更大，相应基体也会更大，这时如果测试些低含量的稳定性就会差很多，所以通常按厂商推荐压力即可，根据样品进行适量调节

恩，为什么我看得有点不明白，压力大，雾滴小，进入炬管的样品不是应该比压力小雾滴大的样品多吗？