主题:【求助】Zn-Al涂层的电化学阻抗谱分析?

浏览0 回复20 电梯直达
yt2320
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原文由 weijianming 发表:
to LZ: 我使用的模型是最常用的,R(RC(RC)),由于对你的体系没有一点经验,所以也不好判断拟和结果是否make sense.

关于拟和结果的判断,我赞同old fox兄;一般我的体系拟和结果中Weighted Sum of Squares在0.5左右,Chip-suared在10-3次方,没办法,只能这么好了。

谢谢您。你一开始拟合的那个是不是可信度低些。可是我又拟合了一遍,还不如你的数据可靠呢。
我对自己的体系也不明不白,看过别人的文献,但是不尽一致。还要继续分析。谢谢啊
yt2320
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weijianming
我有时候拟合时,Weighted Sum Squares和CHI squared都很小,在10-8次方一下,怎么理解。Error%也特别小。曲线拟合的几乎完美。
yt2320
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weijianming
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我使用的是Zview,拟和程度与其初始值有关;2者都很小说明拟和效果好啊,呵呵;一般来说涂层覆盖的金属体系可用那个模型来表示,到后期的话可能会随着电解液渗入到界面发生电化学反应而增加相应的原件。
yt2320
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weijianming
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原文由 yt2320 发表:
哈哈 我对电化学阻抗有些眉目了


恭喜恭喜阿!
lamb19832003
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青岛自然海水浸泡一天的锌铝复合涂层EIS,低层为锌,表层铝。2273电化学工作站。三电极体系。基体为316L。刚开始做实验,请高手分析一下这个EIS图有什么异常。


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