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主题：【分享】【实战宝典】半导体行业应用了哪些在线元素分析技术？

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发表于：2022/07/12 12:13:11 楼主 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
问题描述：半导体行业应用了哪些在线元素分析技术？
解答：
众所周知，在半导体产业中，金属污染会引起芯片良率下降，特定的污染问题还会导致半导体器件不同的缺陷，因此需要严格控制所有制程中金属杂质的引入。为此半导体行业特别需要高效、高灵敏度的在线元素分析技术以满足生产需求。现普遍使用专门针对半导体产业特点的全自动监测系统。包括用VPD（vaporphase decomposition）-ICPMS/MS分析监测晶圆表面超痕量金属、用CSI-ICPMS/MS在线监测各制程中所使用的电子级化学品（包括酸、碱、有机溶剂等）的金属元素含量，SEMIGED-ICPMS/MS进行全自动半导体高纯气体直接进样分析。代表性的供应商有日本IASInc.，美国ESI等。

VPD-ICPMS/MS（图9-2）系统包括晶圆的传送和定位、进行VPD处理、滴加酸液进行扫描、吸取扫描液导入ICP-MS/MS进行分析、出具报告等环节全部自动进行，最大程度避免了污染，减小实验误差，实现超痕量分析。

图9-2晶圆VPD-ICPMS/MS检测系统



CSI-ICPMS/MS系统首先需要考虑采样点的选取，然后进行自动样品采集、稀释、自动标准品加入、测试、出局报告等。图9-3是一个来自ESI公司的监控体系示例。

图9-3 化学品金属含量实时监控体系（ESI）

以上内容来自仪器信息网《样品前处理实战宝典》
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