主题:【已应助】求助,Angilent7900有机进样系统测试半导体有机溶剂的Si和B怎么降低背景

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Insm_4d39d866
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半导体有机溶剂里的Si和B怎么降低背景,难道真的要用串联质谱才能测50ppt级别,用的氩氧混合,用的标准加入法测的IPA,但背景上万的CPS,100ppt才200的CPS,咨询工程师说做不了那么低,感觉现在Angilent的应用越来越不行了,回答的很多问题都是很模糊的,
1、进样系统是否要选择耐氢氟酸的,我的标准溶液10ppm含有0.2%HF
2、用的试剂也在进行排查,试剂有没有推荐的品牌,一直走同一个样品,CPS结果一直在下降,冲完后第二天再开机,又变得很高。如果是试剂的问题,应该会稳定在一个理论值。
推荐答案:光哥回复于2023/09/19
B的应该是可以达到,NG模式就行了。但50ppt这个浓度应该更多的是取决于环境、试剂、器皿的影响——之前有位朋友做多晶硅的时候,检查了所有的可能的因素,最后换了FFU才把本底洗到合适的程度。
有机样品里面的Si,估计不容易做到50ppt,毕竟有机样品的功率一般都得900w左右。
对了,有机样品里面的B要做到50ppt,只怕也不太容易,C12对B11可能会有一些影响(这点是猜测的)
说说自己以前做过的:
Cool Plasma,45amu(SiOH),曲线最低点曾经拉过20还是50ppt,时间久远,有点忘了。但这个是在600w,标准溶液的,不是有机物样品。
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光哥
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B的应该是可以达到,NG模式就行了。但50ppt这个浓度应该更多的是取决于环境、试剂、器皿的影响——之前有位朋友做多晶硅的时候,检查了所有的可能的因素,最后换了FFU才把本底洗到合适的程度。
有机样品里面的Si,估计不容易做到50ppt,毕竟有机样品的功率一般都得900w左右。
对了,有机样品里面的B要做到50ppt,只怕也不太容易,C12对B11可能会有一些影响(这点是猜测的)
说说自己以前做过的:
Cool Plasma,45amu(SiOH),曲线最低点曾经拉过20还是50ppt,时间久远,有点忘了。但这个是在600w,标准溶液的,不是有机物样品。
好想带你去蹦极啊
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B用8900的NG模式可以达到50ppt以下的级别,用冷焰模式效果也不好。我们最近也是在验证降低B背景的问题。
jerry
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Insm_1e5a543b
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有机溶剂里B用nogas,试剂干净的情况下可以做到10ppt以下,89半导体配置
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