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主题：【求助】邻苯二胺聚合膜洗脱

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发表于：2024/08/10 22:19:13 楼主 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
目前在做分子印迹电化学的传感器，由于实验条件限制，选择电聚合的方式，尝试了不同的功能单体，发现在洗脱方面老是出问题，想请教一下各位。首先使用的是邻苯二胺做功能单体，CV聚合后在溶液中检测是基本没有峰电流出现，证明表面膜成功聚合在电极上，但是在洗脱过后，无论是MIP还是NIP都出现了电流，感觉像是电聚合上的膜被洗掉了一样，但是我看文献里这一步NIP洗脱后电流基本没有变化，只有MIP会变。尝试了不同的洗脱液，甲醇/乙酸、甲醇、乙醇、盐酸以及硝酸等，哪怕只是将电极单纯浸泡在溶液里，NIP也会产生电流。也尝试了重新配置邻苯二胺溶液，结果还是不行。开始也怀疑是不是电极材料的问题，但是我在裸GCE上聚合，依然存在这个问题，想请教一下到底是哪里出问题了，为什么我的NIP膜会被洗掉？我应该换个单体试试吗？（比较奇怪的是，我按这个往下做，浓度越大的待测物产生的电流越小，符合正常的分子印迹应有的表现，目前只测了三个浓度，选择性这个还没测试） 请大神不吝帮助~~~
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