主题:【求助】请教关于Si的ICP-MS 检测,达人请指教,谢谢!

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szyf983
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最近碰到一些样品需要检测Si,但是我连基本的校准曲线作的都很差,
麻烦各位达人请指教:我使用的是7500cs。

应该使用什么手法做检测呢?

PS, 有人做过磷(P)的碰撞反应池检测吗?是检测31还是47呢?
如果用冷激光模式,能够达到多大的检出限?

以上两个元素检测非常的让我头痛,任何有想法的大家请积极发言,我也好集思广益。谢谢了。
推荐答案:歪门邪道读鸟书回复于2007/05/18


做P用冷焰发挥不了优势啊,电离效率太低了,背景是低了,但是灵敏度也低。还是用hot plasma 加反应池效果会好一些。 你的是什么样品,不要使用硝酸介质,避开NO的干扰,可能会好些。 我们做过水里的P,几个ppb的线性还可以。标准模式下做的,
补充答案:

cafu2000回复于2007/05/18

Rainwolf_Q回复于2007/05/18

什么性质的样品?水样浓缩后用硅钼蓝配合紫外不行吗?好像没有必要用ICP-MS啊。固体样品就更好说了,先用碱提取再测,需要注意的是尽量采用PP材料的器皿。

rofepeng回复于2007/05/18

首先必须避免污染,并且用99.999%的Ar.
在常规模式下,Si28的BEC大约为50ppb,DL<1ppb。P在常规模式下则非常差。
要达到更好的效果,Si、P均用H2为ORS气体。

molybdenum回复于2007/05/19








不知道你是什么样品,如果是硅酸盐类样品,消解的时候用到HF,生成的SiF4是挥发性的,可能有损失,这个可能是校准曲线作的很差主要原因吧。好像用碱熔可以避免这个问题,理论上应该是可行的。


测P的话应该问题不大,可以将所有的干扰元素检测一下,排除叠加的部分再试试。

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cafu2000
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Si的实验没有做过。

但是P的检测做过,选用31或47都有文献报道。
如果用O2做碰撞气,当然测47。如果用He、H2做碰撞气,可采用31
歪门邪道读鸟书
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原文由 cafu2000 发表:
Si的实验没有做过。

但是P的检测做过,选用31或47都有文献报道。
如果用O2做碰撞气,当然测47。如果用He、H2做碰撞气,可采用31



你作的浓度是多大的?
做P用cs可以用O2作为反应气吗?? 怎么控制副产物的产生,能把Ti47的干扰消除掉吗??个人建议还是用He H2模式
做Si可能比较难,不知道你的超纯水里Si的计数能降到多少?很多超纯水里Si是比较高的。
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Last edit by camelxiangzi
szyf983
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我的是He与H2的反应池,可否共享你提到的文献报道资料?谢谢

另,硅的检测因为有反应导致一些抑制离子的产生,仪器计数会随着浓度梯度增加而线性减少,非常的头痛。

如有相关资料麻烦发到:yafeng.zhao@hynix-st.com
万分感激
cafu2000
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冷激光模式(cool plasma?)
做P可能不会太好,毕竟P的电离能很高


原文由 szyf983 发表:


PS, 有人做过磷(P)的碰撞反应池检测吗?是检测31还是47呢?
如果用冷激光模式,能够达到多大的检出限?

quote]
cafu2000
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我做的磷的BEC在20ppb,灵敏度与金属相比就差多了

你用HeH2的结果如何?



原文由 camelxiangzi 发表:

你作的浓度是多大的?
做P用cs可以用O2作为反应气吗?? 怎么控制副产物的产生,能把Ti47的干扰消除掉吗??个人建议还是用He H2模式
做Si可能比较难,不知道你的超纯水里Si的计数能降到多少?很多超纯水里Si是比较高的。
szyf983
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P的背景20ppb?!那你是做什么样品阿?怎么这么高?什么仪器?

我以前用cool plasma 作,背景都要控制在500ppt以下呢,我作半导体产业洁净室的空气污染。一般浓度含量也就10ppb以下的样品
歪门邪道读鸟书
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原文由 szyf983 发表:
P的背景20ppb?!那你是做什么样品阿?怎么这么高?什么仪器?

我以前用cool plasma 作,背景都要控制在500ppt以下呢,我作半导体产业洁净室的空气污染。一般浓度含量也就10ppb以下的样品


做P用冷焰发挥不了优势啊,电离效率太低了,背景是低了,但是灵敏度也低。还是用hot plasma 加反应池效果会好一些。 你的是什么样品,不要使用硝酸介质,避开NO的干扰,可能会好些。 我们做过水里的P,几个ppb的线性还可以。标准模式下做的,
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Last edit by camelxiangzi
Rainwolf_Q
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什么性质的样品?水样浓缩后用硅钼蓝配合紫外不行吗?好像没有必要用ICP-MS啊。固体样品就更好说了,先用碱提取再测,需要注意的是尽量采用PP材料的器皿。
rofepeng
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首先必须避免污染,并且用99.999%的Ar.
在常规模式下,Si28的BEC大约为50ppb,DL<1ppb。P在常规模式下则非常差。
要达到更好的效果,Si、P均用H2为ORS气体。

cafu2000
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我做的是生物样品啊.

不知冷焰测p的灵敏度怎样?

背景降到500ppt,是质量数31?

原文由 szyf983 发表:
P的背景20ppb?!那你是做什么样品阿?怎么这么高?什么仪器?

我以前用cool plasma 作,背景都要控制在500ppt以下呢,我作半导体产业洁净室的空气污染。一般浓度含量也就10ppb以下的样品
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