原文由 haeckel 发表:
各位高手,我最近看了一些有关ICP-MS原理的一些书,其中有一些东西不大明白,可能对你们来说很菜,请赐教!
1. 什么是射频?射频发生器起什么作用,对ICP有什么影响?
2. ICP中载流气、辅助气和冷却气可以是同一种气体吗?
3. 反射功率是什么意思?它逐渐增大是什么原因造成的?
请高手指点,感谢先!
原文由 古道西风瘦马(handc) 发表:请问辅助气的作用是什么呢
1。提供高能量的高频电能,说到底就是一个高频振荡器。
2。一般ICP中的三种气体都是用的氩气,有时候为了做有机样品,会加入附加气体氧气,帮助有机物分解;还有些ICPMS用He气做载气,不过成本太高,只用于做一些特殊的样品。
3。高频电能通过耦合线圈产生高频电磁场,从而输送稳定的高频电能给plasma,但是耦合线圈并不能完全吸收所有的功率,就会有部分功率被反射回功率放大器,这就是反射功率。反射功率增大的主要原因是由于plasma不稳定造成的,具体因素可能是炬管粘污,锥脏了,高频屏蔽不好,功率放大器工作不稳定,耦合电容不稳定等等。