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主题：【已应助】【求助】液质中的杂质信号

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netsking
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发表于：2010/05/11 13:11:04 楼主 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
有谁知道液质中133, 183, 239都是什么杂质? LC从头到尾都有, 会不会是PEG的峰?
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wangjingjing024
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2010/5/11 14:46:56 沙发 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
PEG应该也不会从头到尾都有啊
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netsking
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2010/5/11 20:03:39 板凳 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
那么是溶剂中的杂质?不会吧, 俺可用的LCMS级的甲醇和水啊. 难到是LC系统被污染了?
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xhcb2007
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2010/5/12 9:40:10 马扎 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
如果是从头到尾都有，一般是离子源被污染。

或者是增塑剂，溶剂中的杂质
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tanggangfeng
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2010/5/12 22:32:02 地毯 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
原文由 netsking(netsking) 发表:
有谁知道液质中133, 183, 239都是什么杂质? LC从头到尾都有, 会不会是PEG的峰?


133.10705[A3B2+H]+[MeOH]n[H2O]mMethanol/WaterESI solvents
183.14383[A4B3+H]+[MeOH]n[H2O]mMethanol/WaterESI solvents
239.14892[A5B+H]+[C2H4O]nH2OPEGPolyethylene glycol, ubiquitous polyether
239.22485[(M.H35Cl)2-Cl]+C6H15NTEA.HClTriethylamine-hydrochloride, buffer
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netsking
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2010/5/12 23:06:14 地板 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
十分感谢.　你知道如何除去溶剂峰吗？听说加大DP就可以减少许多Clustering溶剂，是吗？
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tanggangfeng
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2010/5/13 17:57:08 6楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
原文由 netsking(netsking) 发表:
十分感谢.　你知道如何除去溶剂峰吗？听说加大DP就可以减少许多Clustering溶剂，是吗？


不是很清楚，不过加大反吹以及雾化气流有时候会有效果， 还有当含水量高时溶剂峰会小点。
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netsking
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2010/5/13 23:10:04 7楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
原文由 tanggangfeng(tanggangfeng) 发表:
原文由 netsking(netsking) 发表:
十分感谢.　你知道如何除去溶剂峰吗？听说加大DP就可以减少许多Clustering溶剂，是吗？


不是很清楚，不过加大反吹以及雾化气流有时候会有效果， 还有当含水量高时溶剂峰会小点。


十分收益．谢谢分享．
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xiehong3344530
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2010/5/14 12:28:15 8楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
学到了很多,虽然懂一点,但是不如各位高手呀
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kankankkh
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2010/5/16 20:44:36 9楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
加大反吹以及雾化气流，学习了
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