主题：【求助】求助:半导体行业环境痕量分析中SO4异常

原文由 smallcake(smallcake) 发表:
半导体行业测试环境中痕量F,Cl,SO4,NO3，早晚开关机，正常状态机台在0.5-1h稳定，每天会run一个blank，然后一个标液；
现在机台出现了异常，做标液时4ppbSO4标液只有3ppb左右，3个小时以后4ppb标液run出来才在4ppb左右，并且保持稳定状况，也即是标液run出来的结果是逐渐增大，最后稳定到4ppb，其它几个离子标液都是正常，没有次状况出现；
离子色谱型号：Dionex ICS2000，AS15-4mm+AG15-4mm，使用AG15-4mm做浓缩柱，进样1.3ml/min, 7min。
这种状况是最近突然出现的，一直没有办法解决，不知道大家有没有什么建议。
非常感谢！

原文由 ionbaby(ionbaby) 发表:

原文由 smallcake(smallcake) 发表:
半导体行业测试环境中痕量F,Cl,SO4,NO3，早晚开关机，正常状态机台在0.5-1h稳定，每天会run一个blank，然后一个标液；
现在机台出现了异常，做标液时4ppbSO4标液只有3ppb左右，3个小时以后4ppb标液run出来才在4ppb左右，并且保持稳定状况，也即是标液run出来的结果是逐渐增大，最后稳定到4ppb，其它几个离子标液都是正常，没有次状况出现；
离子色谱型号：Dionex ICS2000，AS15-4mm+AG15-4mm，使用AG15-4mm做浓缩柱，进样1.3ml/min, 7min。
这种状况是最近突然出现的，一直没有办法解决，不知道大家有没有什么建议。
非常感谢！

是不是柱子里进去影响硫酸根的物质了，再就是以前碰到的峰面积不断变大跟抑制器的稳定性有一定关系，再就是硫酸根受柱温影响也挺大的。。。。。

原文由 smallcake(smallcake) 发表:

原文由 ionbaby(ionbaby) 发表:

原文由 smallcake(smallcake) 发表:
半导体行业测试环境中痕量F,Cl,SO4,NO3，早晚开关机，正常状态机台在0.5-1h稳定，每天会run一个blank，然后一个标液；
现在机台出现了异常，做标液时4ppbSO4标液只有3ppb左右，3个小时以后4ppb标液run出来才在4ppb左右，并且保持稳定状况，也即是标液run出来的结果是逐渐增大，最后稳定到4ppb，其它几个离子标液都是正常，没有次状况出现；
离子色谱型号：Dionex ICS2000，AS15-4mm+AG15-4mm，使用AG15-4mm做浓缩柱，进样1.3ml/min, 7min。
这种状况是最近突然出现的，一直没有办法解决，不知道大家有没有什么建议。
非常感谢！

是不是柱子里进去影响硫酸根的物质了，再就是以前碰到的峰面积不断变大跟抑制器的稳定性有一定关系，再就是硫酸根受柱温影响也挺大的。。。。。

谢谢！
也有考虑过柱子的影响，但是有些不明白的是稳定3个小时，又都一直处于一个比较稳定的状况，那到第二天的时候机台应该是非常稳定了，可是这种状况一直持续了有一个月的时间了。
对于抑制器，一年前有过漏液的情况，后来就一直比较稳定了，那我再观察下背景电导在一天中的状况。