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主题：【求助】【原创】新型飞行时间-二次离子质谱仪(TOF-SIMS)简介

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xgq_2001
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发表于：2010/06/10 11:45:22 楼主 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
鉴于广大网友渴望对tof-sims得了解，本人决定分享以下飞行时间二次离子质谱仪简介，本附件主要介绍PHI公司的最新产品，nano-tof得宣传册，但是绝非广告。
国内有tof-sims 仪器的几个院所：

沈阳金属所 新买了ion-tof得tof-sims仪器 TOF-SIMS V，已经开始运行了，负责人好像是：代老师
矿业大学    phi公司的 TRIFT I 友好多年历史了，负责人：梁老师
复旦大学  PHI 公司的, 负责人：李老师
天津飞斯卡尔，具体联系人不清楚
好像听过广东 还有一台PHI公司

我曾经接触过一些关于这面的资料，现在拿出来跟大家分享，希望大家有好的资料要一起分享。
附件：
tof-sims Rev. B.pdf
该帖子作者被版主 tanggangfeng加 3积分， 2经验，加分理由：积极发帖，新的领域，等待大家开发
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2010/6/10 11:46:40 沙发 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
好帖子，千万别沉下去阿！！！！！！！！
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xgq_2001
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2010/6/10 13:08:45 板凳 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
ｔｏｆ－ｓｉｍｓ在同位素分析中应用：
1。可以获得所有元素的全部同位素，包括H元素在内的三个同位素均可以被检测
2。分析同位素，可以获得同位素的丰度比，完全符合自然界的分布规律
3。有些同位素在阴阳离子谱图中均可被检测到，但是其灵敏度不一样
4。对于没有同位素的元素，如 I， 有时候会很难判断它们的存在
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xgq_2001
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2010/6/10 13:10:26 马扎 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
半导体生产：
在晶圆的制备过程中，由于生产流程长，工序繁多，不可避免的会遇到污染，那么该如何分析检测这些濡染物呢？如何评价清洗工序的清洗的效果呢？可以考虑采用飞行时间-二次离子质谱仪来检测。
样品制备：
飞行时间-二次离子质谱仪作为一种表面分析工具，对样品制备要求非常严格。样品分析的表面绝对不能接触任何包装物，尤其是防静电袋，双面胶等等，这些都会对样品进行污染，常见的污染特征峰，防静电剂：阴离子：311，325，339等，对于双面胶其常见的污染物峰为（硅氧烷）：阳离子：28，43，73，143，281 等等，另外，样品也不能在空气或者办公室内放置过长时间，要不同样会测到大量污染物，而测不到污染物下面的成分，因为，其分析深度只有3~6nm。例如,在晶圆的表面上永远都可以测到大量的CH峰，其本质原因就是生产工艺或者空气中的CH化合物吸附在其表面。众所周知，其分析的检测限为ppm~ppb，相当高。所以，样品制备要极其严格。
数据处理：
一般上分析过程中要考虑，组合峰的出现，比如我们在分析单晶硅得时候，样品表面会不可避免地出现（正离子）１４，２７，２８，４５，等等一系列的峰，首先要学会辨认他们。比如２８，它可能是Ｓｉ２８，也可能是ｃ２ｈ４２８，如何区分他们，这就需要经验。

欢迎大家分享自己的经验。
该帖子作者被版主 hendle加 2积分， 2经验，加分理由：好帖
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2010/6/10 19:37:33 Last edit by capinter
凡心点点
alvinyang32
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2010/6/11 10:37:53 地毯 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
好资料，学习下！大概多少价格啊
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xgq_2001
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2010/6/11 17:05:44 地板 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
原文由 凡心点点(alvinyang32) 发表:
好资料，学习下！大概多少价格啊

价格不了解，肯定很贵阿！！
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xgq_2001
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2010/6/11 21:28:31 6楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
原文由 xgq_2001(xgq_2001) 发表:
原文由 凡心点点(alvinyang32) 发表:
好资料，学习下！大概多少价格啊

价格不了解，肯定很贵阿！！

不知道谁知道tof-sims一般价格阿？？
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wangh2009
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2010/6/12 10:43:57 7楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
好拽的仪器，价格肯定不菲
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xgq_2001
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2010/6/12 14:25:37 8楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
不知道我们学校什么时候能买一台的，看来是没有希望了。
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xgq_2001
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2010/6/12 14:28:16 9楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
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2010/6/12 14:48:02 10楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
我们知道质谱分析最重要的部分就是解析图谱，如何解析二次离子质谱呢？好像很困难，因为目前关于二次离子质谱的数据并不多。本人综合总结了培训过程中所学一点经验给大家分享；
1。二次离子质谱分为两种，一种动态二次离子质谱(ＤＳＩＭＳ)，如ＣＡＭＥＣＡ公司生产的ＩＭＳ－ｘｆ系列，一种静态二次离子质谱（Ｓ－ＳＩＭＳ），如ＵＬＶＡＣ－ＰＨＩ公司生产的ｎａｎｏ－ＴＯＦ系列。动态和静态区分的标准时入射离子的计量，当＞10^12ions/cm^2称为动态－ＳＩＭＳ，小于这个数值，称为Ｓ－ＳＩＭＳ．动态－ＳＩＭＳ主要用作半导体器件痕量元素的深度分析，以及矿物用同位素定年。要求样品导电性要好，静态－ｓｉｍｓ主要用于表面成分分析，如有机物，无机物分析，且可以分析分子碎片，并可以使其成像（2D,3D）。

2。全部同位素解析，根据同为个数，和自然界的丰度，半段谱峰对应的元素，同时也可以考虑一般谱峰都是带一个电荷的离子，通过查元素周期表就可以确认他们存在与否。
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