主题：【已应助】求助关于ICP-OES测Hg

原文由 砂锅粥(czcht) 发表:

Hg在ICP上测主要的问题是残留和检出限高，其他的没啥大问题。 不知老师的样品是否含有V，钒会干扰Hg194这条谱线。

原文由 JOE HUI(xurunjiao5339) 发表:
不知道会不会有基质效应等导致结果偏高

原文由 AK-47(冲)(scott-vip) 发表:

谢谢指导。

V这个不知道是否含有，我们测不了这个元素。测试样品是是电解质，带有电解液一起测试的。

现在就是不明白怎么才能提前排除干扰。从整个方法来看都发现不了问题。。或者是说只能拿掉ICP的方法？

原文由 tang566(tang566) 发表:
用194nm测的数值是多少？
或用基体匹配测测看。

原文由 AK-47(冲)(scott-vip) 发表:

194测出来是30ppm.AFS验证是ND

送外部比对结果也是ND

客户之前在别家测试的也是ND

我们就想不通整个方法到底要怎么验证才能发现问题。目前显示出的信息和各项参数都很好，参考标准物质测试结果也很好。

都不知道咋去判断到底用194还是184，哪个是对的哪个是干扰峰没法给个有效的验证方法。

原文由 tang566(tang566) 发表:

客户的报告，用的检测仪器是？

你们送外检，第三方用的检测仪器是？

原文由 AK-47(冲)(scott-vip) 发表:

分别是AFS和CVAAS

我现在确定ICP-OES还是不完善，至少是我们自己实验室目前ICP方法还是不合理。主要是想着怎么样才能提前发现测试结果有问题。因为从头到尾分析结果，各个质控手段都很合理，看不出问题。

这个过程就有点类似：取样取错了，要求测试黑色塑料，取样取得白色塑料，所以结果肯定不对了。其他的原因实在分析不出来，想不明白做的这些质控、标样、曲线、回收率都OK，这是咋回事儿？怎么提前发现问题？

原文由 AK-47(冲)(scott-vip) 发表: 分别是AFS和CVAAS我现在确定ICP-OES还是不完善，至少是我们自己实验室目前ICP方法还是不合理。主要是想着怎么样才能提前发现测试结果有问题。因为从头到尾分析结果，各个质控手段都很合理，看不出问题。这个过程就有点类似：取样取错了，要求测试黑色塑料，取样取得白色塑料，所以结果肯定不对了。其他的原因实在分析不出来，想不明白做的这些质控、标样、曲线、回收率都OK，这是咋回事儿？怎么提前发现问题？