主题:ICP-AES的谱图分析

浏览0 回复24 电梯直达
tzl75
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原文由 ahana0118(ahana0118) 发表:
我是小关,我什么都不知道,怎么办


你也太OUT了,看来最近上网了.
fantasy709
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这个问题确实比较复杂,但是很实用,一般有经验的积累,比如对每种基材的干扰等等,但是一般都是选择标准曲线和样品的曲线进行比较的,看看样品的曲线和标准曲线是不是重合,半分宽如何等等!
莹莹kitty
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原文由 西北狼(tzl75) 发表:
其实就是干扰系数,干扰因子,一般用他来描述干扰元素对被分析元素的干扰程度,当分析谱线与其他谱线存在干扰时,可通过干扰系数校正来进行测定,就象“W中Mo测定的哪个帖子”我发的谱图,当光谱出现那样的干扰时就可以采用他来分析,不过,现在的机子好多软件都设定好了,你直接进行测定,计算机回自动算出K的,好好看看你的说明书,话说回来,一般都很少用这个进行测定的,平时我们遇到光谱重叠干扰后,一般靠另选谱线来分析,
亲,你那个W中Mo测定的帖子能给个链接吗?我想看看呢。
莹莹kitty
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其实就是干扰系数,干扰因子,一般用他来描述干扰元素对被分析元素的干扰程度,当分析谱线与其他谱线存在干扰时,可通过干扰系数校正来进行测定,就象“W中Mo测定的哪个帖子”我发的谱图,当光谱出现那样的干扰时就可以采用他来分析,不过,现在的机子好多软件都设定好了,你直接进行测定,计算机回自动算出K的,好好看看你的说明书,话说回来,一般都很少用这个进行测定的,平时我们遇到光谱重叠干扰后,一般靠另选谱线来分析,
亲,你那个W中Mo测定的帖子能给个链接吗?我想看看呢。
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