主题:【求助】ICP-MS可以测硅片表面金属的含量吗?

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bdtcs2008
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原文由 tcduan 发表:
激光烧蚀或者表面化学浸提


VPD技术好像需要特别的配置
chauchylan
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原文由 tcduan 发表:
激光烧蚀或者表面化学浸提


表面化学浸提是指表面化学萃取吗???
风起云飘舞
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好像看到过一这样的文章,但是全是英文,很困难的阅读完,发现内容很空洞,没什么实践价值,只是说了一些人所共知的套话。大体上说可以测,具体方案可以咨询仪器厂家 的应用专家。
kiwi-kids
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原文由 zhckj 发表:
好像看到过一这样的文章,但是全是英文,很困难的阅读完,发现内容很空洞,没什么实践价值,只是说了一些人所共知的套话。大体上说可以测,具体方案可以咨询仪器厂家 的应用专家。


这个可以参考SEMI的方法,石墨炉原吸或者ICPMS测定硅片表面元素沾污

仪器公司的文献更侧重于如何调整仪器以及具体的实验数据
nps
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原文由 zhengxxx 发表:
原文由 zhckj 发表:
好像看到过一这样的文章,但是全是英文,很困难的阅读完,发现内容很空洞,没什么实践价值,只是说了一些人所共知的套话。大体上说可以测,具体方案可以咨询仪器厂家 的应用专家。


这个可以参考SEMI的方法,石墨炉原吸或者ICPMS测定硅片表面元素沾污

仪器公司的文献更侧重于如何调整仪器以及具体的实验数据



是的,SEMI有这么一个标准方法...
zhangzhoumin
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当然可以了,如果你需要可以和我联系邮箱ZXMLYK@SINA.COM
nps
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