主题：【讨论】标准加入法做标准曲线，分析数据的时候要不要扣除方法空白？

原文由 nps 发表:
方法空白是为了消除操作、试剂等因素造成污染的干扰。使用标准加入法，空白和样品同样都是需要加入标准的，最终结果当然需要用样品测试值减去空白测试值。因为是超痕量分析，会出现样品中某些杂质含量比空白中杂质含量要稍低一些的情况，个人认为这是正常情况，不减空白就可以。

原文由 loki258 发表:
其实我们标准加入法做出来的是空白+样品，是要扣除空白的，如果空白影响小的话就无所谓，对样品影响大的话一定要扣，否则算出来的浓度会偏高！我这几天也在用标准加入法做海水中的痕量元素，也做的不太好

原文由 luckyfox 发表:
楼主  你是做半导体中痕量杂质元素分析的，想必是要飞硅的～～那么你的测试溶液实际上杂质含量非常少，几乎相当于基体就是酸溶液。所以没有必要使用标准加入法。

  标准加入法的最大意义在于校正不同基体对于灵敏度的影响。

  比如拿高纯水配制的标准溶液，1ppb的B 有5000CPS；而在高基体的样品中，1ppb的B可能只有4000CPS，这时就会出现计算结果偏低的情况。需要用标准加入法。

原文由 zhckj 发表:

原文由 luckyfox 发表:
楼主  你是做半导体中痕量杂质元素分析的，想必是要飞硅的～～那么你的测试溶液实际上杂质含量非常少，几乎相当于基体就是酸溶液。所以没有必要使用标准加入法。

  标准加入法的最大意义在于校正不同基体对于灵敏度的影响。

  比如拿高纯水配制的标准溶液，1ppb的B 有5000CPS；而在高基体的样品中，1ppb的B可能只有4000CPS，这时就会出现计算结果偏低的情况。需要用标准加入法。

谢谢，慢慢消化后在请教，感觉有点通了，只是感觉分析结果不严密，貌似ICP-MS定性还行定量上不够严密似的，

原文由 zhckj 发表:

原文由 luckyfox 发表:
楼主  你是做半导体中痕量杂质元素分析的，想必是要飞硅的～～那么你的测试溶液实际上杂质含量非常少，几乎相当于基体就是酸溶液。所以没有必要使用标准加入法。

  标准加入法的最大意义在于校正不同基体对于灵敏度的影响。

  比如拿高纯水配制的标准溶液，1ppb的B 有5000CPS；而在高基体的样品中，1ppb的B可能只有4000CPS，这时就会出现计算结果偏低的情况。需要用标准加入法。

谢谢，慢慢消化后在请教，感觉有点通了，只是感觉分析结果不严密，貌似ICP-MS定性还行定量上不够严密似的，

原文由 luckyfox 发表:
按照工程师的说法，样品浓度含量2ppb，上机测到6ppb，很好………………

原文由 zhckj 发表:

原文由 luckyfox 发表:
楼主  你是做半导体中痕量杂质元素分析的，想必是要飞硅的～～那么你的测试溶液实际上杂质含量非常少，几乎相当于基体就是酸溶液。所以没有必要使用标准加入法。

  标准加入法的最大意义在于校正不同基体对于灵敏度的影响。

  比如拿高纯水配制的标准溶液，1ppb的B 有5000CPS；而在高基体的样品中，1ppb的B可能只有4000CPS，这时就会出现计算结果偏低的情况。需要用标准加入法。

谢谢，慢慢消化后在请教，感觉有点通了，只是感觉分析结果不严密，貌似ICP-MS定性还行定量上不够严密似的，