原文由 ss0128 发表:
我们实验室是四级杆的质谱
发现做蛋白 多肽和金属有机复合物的时候,比较难形成准分子离子峰
金属有机复合物只能出现配体
不知道对于这种情况 用TOF会不会好些
还有,在做液质联用定量分析的时候
重现性不好,低浓度的重现性误差能达到150%
高浓度时,重现性也不是很好,误差也有20%
还有,发现锥孔特别容易脏,做了1小时后,响应整体性下降
不知道有没有人遇到过同类情况
我也是用QQQ,个人感觉它的稳定性、重现性是没有HPLC好,但看你的重现性的数据感觉是有点大,但不知你的重现性数据是怎么得来的?
如果是同一样品连续进样5针以上、计算面积的RSD,这个值太大了,我们的低浓度的不到10%,高浓度也就5%。
如果你是用同一分析批不同时间同一浓度的不同样品来计算面积的RSD,会高一定,但一般我们还是能达到药代报批的要求:低浓度,20%;中、高浓度,15%。
液质的不同分析批、或不同日期下同一浓度的样品的面积是有较大波动的,这时要将面积带进每批(或天)的随行线性,这也就是液质为什么每一分析批都要随行标曲、使用内标法、而且更严格的分析时需要在分析完一定数量的样品后要进质控样品(QC)来考察信号的漂移程度,如果QC的变化太大,只能允许少量QC结果超出要求(药代是:低浓度,20%;中、高浓度,15%),而且还不能是同一浓度的。
针对你第二疑问:我用的是Agilent的,可能和你不是一个公司的,我们在MS设置界面,可以设定不同的时间段,在前面的没有待测物的流出的时间段,可以设置流路to waste(如样品在3分钟左右出峰,那我将前面2min、甚至2.5min的流出液都排到废液,不进入离子源喷雾、那自然就不进入MS了),这样可以大大降低样品对MS的污染,尤其在柱上不保留的东西既多又杂。
不知你的仪器是否可以设置,也可以问问工程师是否有一些减少污染的方法。
我们每天分析完,只需要清洗离子源就可以了,而且还挺干净的。污染也应该没有,因为我们的低浓度的QC除个别提取过程中有异常、一般均能符合要求