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主题：【讨论】氯硅烷中痕量磷杂质的ICP-MS分析讨论

浏览0 回复28 电梯直达
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nps
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2010/12/4 14:31:53 21楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
原文由 开心(Edwardyan) 发表:
原文由 popo(popo) 发表:
多赶几次，尽量去除Si基体。
冷焰下Ti是不电离，但是P在此模式下电离的比较少，灵敏度还是较低。

支持popo兄的观点。最好别用冷焰测定P。P本来就较难电离，冷焰的话离子化效率就更低了。


还是和样品中磷含量有关，含量太低了，用标准模式或者反应气模式检测限到不了那么低，冷焰可以显著降低检出限，但是受基体影响更明显，纠结啊。
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kiwi-kids
zhengxxx
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2010/12/6 9:38:14 22楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
其实高分辨率质谱这个时候应该派上用途了
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光哥
xsh1234567
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2010/12/6 23:01:50 23楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
貌似如果没意外的话，硅外延用三氯氢硅的杂质分析GB是通过了，P用冷焰

不过感觉这个标准好那么什么什么的～～。。。。
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2010/12/22 0:00:07 Last edit by xsh1234567
zhangjing770880
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2013/5/2 22:13:09 24楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
你好，请问下目前FPD方法怎么样了啊！有进展没?
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liaoxiaozi
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2014/7/24 19:30:09 25楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
GC-MS测试一下试试  理论上实现比较容易 正在做氢气中磷的测定有兴趣可以联系  光谱可以做到2ppb  石墨炉原吸应该是最好的选择低干扰高灵敏度
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zxm1987322
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2020/4/21 13:54:13 26楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
楼主还在这个行业吗？
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光哥
xsh1234567
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2020/4/21 16:58:18 27楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
原文由 zxm1987322(zxm1987322) 发表:
楼主还在这个行业吗？
帮回复下：早就不在了
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nps
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2020/4/27 0:12:40 28楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
原文由 光哥(xsh1234567) 发表:
帮回复下：早就不在了
，是的，不在多晶硅行业了，现在是第三方检测...
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