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主题：【求助】ICP-OES在多晶硅中的应用

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qiangxiang

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发表于：2009/12/12 14:50:05 楼主管理分享倒序浏览只看楼主回复私聊

ICP-OES在测定工业硅中金属杂质时的样品前处理、对工业硅中杂质含量的国际标准，能否详细点，最好将标准全部给出

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2009/12/12 17:05:47 沙发管理分享倒序浏览只看楼主回复私聊

楼主是工业硅，还是多晶硅，这2个分析完全不一样。多晶硅的话需要ICP-MS分析的。工业硅的话ICP可以的

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guangpu09

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2009/12/12 19:01:54 板凳管理分享倒序浏览只看楼主回复私聊

我是做多晶硅原料检测的，三氯氢硅中杂质的检测。现在在用 ICP-MS检测三氯氢硅中金属盒B杂质的含量，不过不是我负责那块。现在厂里决定买一台PE的ICP-OES来做，最近我一直都在查有关ICP-OES的资料，如果和楼猪的课题一样，希望有机会一起讨论，我 QQ506313762。
ICP-MS的检出限低，灵敏度高，用来检测杂质含量大致在5PPB---1000PPB三氯氢硅，是不是太暴殄天物了！经常出现检不出的情况，这个是什么原因造成的？用的是标准曲线法，点数是用0.1PPM或者0.01PPM的混标配的点，分别是0， 1， 2， 5， 10 ，20 。线性相关系数能达到0.98以上。而且实验室那几个还经常用 ICP-MS做别的含量检测。

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2009/12/12 20:12:56 马扎管理分享倒序浏览只看楼主回复私聊

多晶硅的确不能用ICP光谱法分析的，必须要用ICP-MS，或用GD-MS

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红土泥人

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2009/12/12 20:15:21 地毯管理分享倒序浏览只看楼主回复私聊

原文由 guangpu09(guangpu09) 发表:
我是做多晶硅原料检测的，三氯氢硅中杂质的检测。现在在用 ICP-MS检测三氯氢硅中金属盒B杂质的含量，不过不是我负责那块。现在厂里决定买一台PE的ICP-OES来做，最近我一直都在查有关ICP-OES的资料，如果和楼猪的课题一样，希望有机会一起讨论，我 QQ506313762。
ICP-MS的检出限低，灵敏度高，用来检测杂质含量大致在5PPB---1000PPB三氯氢硅，是不是太暴殄天物了！经常出现检不出的情况，这个是什么原因造成的？用的是标准曲线法，点数是用0.1PPM或者0.01PPM的混标配的点，分别是0， 1， 2， 5， 10 ，20 。线性相关系数能达到0.98以上。而且实验室那几个还经常用 ICP-MS做别的含量检测。

ICP-OES检出限难以达到个位数的PPB的，尤其是B和P，用ICP-MS是非常合适的啊

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