原文由 smallcake(smallcake) 发表:
半导体行业测试环境中痕量F,Cl,SO4,NO3,早晚开关机,正常状态机台在0.5-1h稳定,每天会run一个blank,然后一个标液;
现在机台出现了异常,做标液时4ppbSO4标液只有3ppb左右,3个小时以后4ppb标液run出来才在4ppb左右,并且保持稳定状况,也即是标液run出来的结果是逐渐增大,最后稳定到4ppb,其它几个离子标液都是正常,没有次状况出现;
离子色谱型号:Dionex ICS2000,AS15-4mm+AG15-4mm,使用AG15-4mm做浓缩柱,进样1.3ml/min, 7min。
这种状况是最近突然出现的,一直没有办法解决,不知道大家有没有什么建议。
非常感谢!
原文由 ionbaby(ionbaby) 发表:原文由 smallcake(smallcake) 发表:
半导体行业测试环境中痕量F,Cl,SO4,NO3,早晚开关机,正常状态机台在0.5-1h稳定,每天会run一个blank,然后一个标液;
现在机台出现了异常,做标液时4ppbSO4标液只有3ppb左右,3个小时以后4ppb标液run出来才在4ppb左右,并且保持稳定状况,也即是标液run出来的结果是逐渐增大,最后稳定到4ppb,其它几个离子标液都是正常,没有次状况出现;
离子色谱型号:Dionex ICS2000,AS15-4mm+AG15-4mm,使用AG15-4mm做浓缩柱,进样1.3ml/min, 7min。
这种状况是最近突然出现的,一直没有办法解决,不知道大家有没有什么建议。
非常感谢!
是不是柱子里进去影响硫酸根的物质了,再就是以前碰到的峰面积不断变大跟抑制器的稳定性有一定关系,再就是硫酸根受柱温影响也挺大的。。。。。
原文由 smallcake(smallcake) 发表:原文由 ionbaby(ionbaby) 发表:原文由 smallcake(smallcake) 发表:
半导体行业测试环境中痕量F,Cl,SO4,NO3,早晚开关机,正常状态机台在0.5-1h稳定,每天会run一个blank,然后一个标液;
现在机台出现了异常,做标液时4ppbSO4标液只有3ppb左右,3个小时以后4ppb标液run出来才在4ppb左右,并且保持稳定状况,也即是标液run出来的结果是逐渐增大,最后稳定到4ppb,其它几个离子标液都是正常,没有次状况出现;
离子色谱型号:Dionex ICS2000,AS15-4mm+AG15-4mm,使用AG15-4mm做浓缩柱,进样1.3ml/min, 7min。
这种状况是最近突然出现的,一直没有办法解决,不知道大家有没有什么建议。
非常感谢!
是不是柱子里进去影响硫酸根的物质了,再就是以前碰到的峰面积不断变大跟抑制器的稳定性有一定关系,再就是硫酸根受柱温影响也挺大的。。。。。
谢谢!
也有考虑过柱子的影响,但是有些不明白的是稳定3个小时,又都一直处于一个比较稳定的状况,那到第二天的时候机台应该是非常稳定了,可是这种状况一直持续了有一个月的时间了。
对于抑制器,一年前有过漏液的情况,后来就一直比较稳定了,那我再观察下背景电导在一天中的状况。