原文由 wdl158160(wdl158160) 发表:原文由 rome(rome) 发表:软件里的条件是在一定条件下的原子化温度吧,不同的条件是不是需要的原子化温度不同啊?
一般仪器的操作软件里面有大概的操作的原子化和灰化温度默认提示,可以在附近的范围内(比如50度作为一个条件变化)选择做原子化灰化实验,根据信号的高低和稳定性来综合选择,同时还要考虑的是 石墨管类型不一样原子化温度也有差别 原子化温度是(平台管>涂层 >普通)具体原因就是被原子化加热方式有所区别。平台主要是管子热辐射而另外两个主要是热传导。
原文由 rome(rome) 发表:谢谢,以后我慢慢优化温度吧。原文由 wdl158160(wdl158160) 发表:原文由 rome(rome) 发表:软件里的条件是在一定条件下的原子化温度吧,不同的条件是不是需要的原子化温度不同啊?
一般仪器的操作软件里面有大概的操作的原子化和灰化温度默认提示,可以在附近的范围内(比如50度作为一个条件变化)选择做原子化灰化实验,根据信号的高低和稳定性来综合选择,同时还要考虑的是 石墨管类型不一样原子化温度也有差别 原子化温度是(平台管>涂层 >普通)具体原因就是被原子化加热方式有所区别。平台主要是管子热辐射而另外两个主要是热传导。
对 而且石墨管的类型不一样,我用的仪器石墨管不一样,所设定的温度差别可高达 500度。所以不能盲目照搬。还得做实验才行。