原文由 alexright 发表:当前主流XRF综合稳定度均优于0.1%。因此XRF分析误差主要由样品所引起,更确切地说,是由于制样产生的样品高度误差以及样品定位误差所引起。有关实验表明,采用铂/金坩埚铸型的自动熔样机制备的玻璃熔片,表面曲率的变化导致的样品定位误差可高达100微米。有些粉末压片后分析表面可能因膨胀而出现弯曲(例如含高硅的样品),富含碳酸钙的样品有时也可能发生弯曲。近来,一些XRF主力厂商纷纷将其新品由上照射方式改为下照射方式,一是简化XRF结构,更重要的考虑则是减小样品定位误差。原文由 xrfsply 发表:
样品冷却越迅速,影响越大。
哥们,能定量么?请教,有没有这方面的文章?嘿嘿.
我只知道,不均匀的冷却,会出现晶斑.