主题:【原创】如何摆脱电镜污染物? ( 电镜用户必看之维护篇 )

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lich_dc
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原文由 gohope(gohope) 发表:
这个装置在TESCAN FE-SEM上是选配件之一。

清洁操作通过软件控制,而且软件嵌合在SEM的软件中。



楼主,不好意思,借你的地方广告了一下。


嗯只要是场发射,FIB,TEM等高端系统防污染装置应该是必需的系统的。
tt5432
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lich_dc
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原文由 tt5432(tt5432) 发表:
好啊!以前还不知道呢?


随着电镜领域的发展,如何好的维护系统和如何买个好的系统同等重要了。 特别是高端系统,污染问题越发严重
cnfvmqj
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lich_dc
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原文由 cnfvmqj(cnfvmqj) 发表:
好东西!多少钱啊!


有给透射用的,有给扫描和FIB用的,你可以直接联系他们厂家代理商 www.micro-nanotech.com 溢鑫科创科技有限公司
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2015/5/11 10:33:31 Last edit by lich_dc
lich_dc
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对于环境扫描或者超低真空技术而言:

长期工作在ESEM或VP 模式,样品室内的水蒸气可以认为是个"污染源" 。样品室内温度最低的是能谱探测器,水蒸气会使探测器晶体结冰。探测器接近样品,超薄窗口表面会有水或油滴凝集,使窗口增厚,探测轻元素的灵敏度下降。样品室内的其他零部件,例如闪烁体、物镜极靴和样品工作台都会受影响。如果有油污染后果更严重。
suf0801
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开发者的初衷是好的,但是这个对样品损伤太大,有刻蚀的效果,不少老师没用在清洗上,而是用在了样品刻蚀氧化上了
lich_dc
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原文由 suf0801(suf0801) 发表:
开发者的初衷是好的,但是这个对样品损伤太大,有刻蚀的效果,不少老师没用在清洗上,而是用在了样品刻蚀氧化上了


嗯,您的这种说法也是一个普遍问的问题

不过此离子非彼离子。 离子减薄仪的离子,FIB的离子,以及现在最新用于刻蚀He,Ne离子都是不同离子

比如用于透射以及透射样品杆的话,你就可以选择Ar, O2, H2 和 N2 多种清洁,比较建议使用O2(5.1eV)和N2(9.1eV)的混合

您说的样品刻蚀请查下是多少能量?  也可以查下现流行的离子减薄仪最低是多少能量? 你就很直观有个对比了

现这个产品国内扫描电镜和FIB上使用客户已经上了60套,没有反应对样品损伤。

希望能解决你的顾虑。 如有问题我们可以再详谈
suprabm2003
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嗯,相当不错的附件装置,看来国内电镜用户的使用维护意识还需要提高
wszlm
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有买过并用过的吗?张贴一下价格和使用心得啊,大家共同参考。
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