原文由 suf0801(suf0801) 发表:
开发者的初衷是好的,但是这个对样品损伤太大,有刻蚀的效果,不少老师没用在清洗上,而是用在了样品刻蚀氧化上了
嗯,您的这种说法也是一个普遍问的问题
不过此离子非彼离子。 离子减薄仪的离子,FIB的离子,以及现在最新用于刻蚀He,Ne离子都是不同离子
比如用于透射以及透射样品杆的话,你就可以选择Ar, O2, H2 和 N2 多种清洁,比较建议使用O2(5.1eV)和N2(9.1eV)的混合
您说的样品刻蚀请查下是多少能量? 也可以查下现流行的离子减薄仪最低是多少能量? 你就很直观有个对比了
现这个产品国内扫描电镜和FIB上使用客户已经上了60套,没有反应对样品损伤。
希望能解决你的顾虑。 如有问题我们可以再详谈