主题：【求助】离子源清洗问题？？？

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清洗离子源程序

从工作站中tune and vacuum/vacuum/power-on temps将离子源和四极杆温度设为0 ,拆卸离子源
用专用绿色砂纸或三氧化二铝粉（用无水乙醇混成糊状）打磨除灯丝及螺丝外的金属零件表面，特别注意离子轨道内各部分。
用水仔细冲洗
HPLC级甲醇清洗，再用二氯甲烷清洗，最后用丙酮或正己烷清洗
将所有离子源部件（包括未打磨的部件）放入洁净烧杯，分析纯无水乙醇超声波清洗4次，每次10分钟。注意：如果使用强溶解性溶剂如丙酮等，不要清洗透镜绝缘体和加热块导线。
放于洁净烧杯，置于GC柱温箱内，将炉温设为20°C（使风扇不停转动）约60分钟
组装，确认无短路，放回。插好各部件电线
抽真空（确认泵工作正常，此时离子源与四极杆不加热）。1小时后将温度升至正常状态
至少2小时后调谐

不建议使用无水乙醇混成糊状，原因是挥发速度快，对于比较脏的离子源，可能还没打磨完，无水乙醇却完全挥发了

这边也是用的无水乙醇，呵呵，那么应该用什么比较好呢？

用去离子水。

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清洗离子源程序

从工作站中tune and vacuum/vacuum/power-on temps将离子源和四极杆温度设为0 ,拆卸离子源
用专用绿色砂纸或三氧化二铝粉（用无水乙醇混成糊状）打磨除灯丝及螺丝外的金属零件表面，特别注意离子轨道内各部分。
用水仔细冲洗
HPLC级甲醇清洗，再用二氯甲烷清洗，最后用丙酮或正己烷清洗
将所有离子源部件（包括未打磨的部件）放入洁净烧杯，分析纯无水乙醇超声波清洗4次，每次10分钟。注意：如果使用强溶解性溶剂如丙酮等，不要清洗透镜绝缘体和加热块导线。
放于洁净烧杯，置于GC柱温箱内，将炉温设为20°C（使风扇不停转动）约60分钟
组装，确认无短路，放回。插好各部件电线
抽真空（确认泵工作正常，此时离子源与四极杆不加热）。1小时后将温度升至正常状态
至少2小时后调谐

原文由 千层峰(jxyan) 发表:
我还见过有用甘油来调氧化铝粉末来清洁的，绝对的难挥发，但清洗时间久

原文由 木有才(xgy2005) 发表:

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清洗离子源程序

从工作站中tune and vacuum/vacuum/power-on temps将离子源和四极杆温度设为0 ,拆卸离子源
用专用绿色砂纸或三氧化二铝粉（用无水乙醇混成糊状）打磨除灯丝及螺丝外的金属零件表面，特别注意离子轨道内各部分。
用水仔细冲洗
HPLC级甲醇清洗，再用二氯甲烷清洗，最后用丙酮或正己烷清洗
将所有离子源部件（包括未打磨的部件）放入洁净烧杯，分析纯无水乙醇超声波清洗4次，每次10分钟。注意：如果使用强溶解性溶剂如丙酮等，不要清洗透镜绝缘体和加热块导线。
放于洁净烧杯，置于GC柱温箱内，将炉温设为20°C（使风扇不停转动）约60分钟
组装，确认无短路，放回。插好各部件电线
抽真空（确认泵工作正常，此时离子源与四极杆不加热）。1小时后将温度升至正常状态
至少2小时后调谐

不建议使用无水乙醇混成糊状，原因是挥发速度快，对于比较脏的离子源，可能还没打磨完，无水乙醇却完全挥发了

这边也是用的无水乙醇，呵呵，那么应该用什么比较好呢？

用去离子水。

谢谢朱老师解答，既然去离子水更好，为啥要用无水乙醇，应该也有其可取的地方吧

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用专用绿色砂纸或三氧化二铝粉（用无水乙醇混成糊状）打磨除灯丝及螺丝外的金属零件表面，特别注意离子轨道内各部分。
用水仔细冲洗
HPLC级甲醇清洗，再用二氯甲烷清洗，最后用丙酮或正己烷清洗
将所有离子源部件（包括未打磨的部件）放入洁净烧杯，分析纯无水乙醇超声波清洗4次，每次10分钟。注意：如果使用强溶解性溶剂如丙酮等，不要清洗透镜绝缘体和加热块导线。
放于洁净烧杯，置于GC柱温箱内，将炉温设为20°C（使风扇不停转动）约60分钟
组装，确认无短路，放回。插好各部件电线
抽真空（确认泵工作正常，此时离子源与四极杆不加热）。1小时后将温度升至正常状态
至少2小时后调谐

不建议使用无水乙醇混成糊状，原因是挥发速度快，对于比较脏的离子源，可能还没打磨完，无水乙醇却完全挥发了

这边也是用的无水乙醇，呵呵，那么应该用什么比较好呢？

用去离子水。

原文由 learner1999(learner1999) 发表:
20度是不是太低了？