主题:【分享】悲剧的ICP-MS

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yukiyxy
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      最近收到一个样品,业务说是纯度达6N的多晶硅,溶样过程中发现实验现象不同多晶硅的消解过程,再次打电话去确认,业务也特地问客户后回复说是样品的6N的多晶硅切割碎末;于是查找多晶硅切割方面的资料,估计实验中不溶物为碳化硅,因此过滤定容,上机测试。然后就悲剧了,钙信号饱和。根据稀释倍数估算了一下,感觉样品溶液中元素含量很高。用ICP-AES一测,呃,钙有500多ppm,铁有4000多ppm,。更悲剧的是第二天,开机测试,没有响应信号了!调试炬管位置、雾化器、透镜参数,愣是没信号,最后加大检测器电压好点了,只是这跟检测器本来已经用了很长时间,报废了。更换检测器后,开机测试,双氩的信号一开始(仅仅是一开始)跟平常差不多,然后很快降到一半不动了,10ppb的In的强度只有几万。怀疑是双锥的问题,拆下来,小锥比较烫,清洗干净后安装回去,再次开机测试,这次双氩的信号直接是平时的一半,。参数调节后也没啥变化,现在估计腔体被污染,透镜组受高速离子流撞击损伤,具体情况得等明天拆开腔体才知道
   
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信号饱和后,冲洗不能降下来吗?怎么会直接报废检测器了啊?
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信号饱和后,冲洗不能降下来吗?怎么会直接报废检测器了啊?


这次含量真的太高了,500多PPM的钙啊;检测器本来的电压原来就有3600,估计在这样一折腾就给废了
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这次含量真的太高了,500多PPM的钙啊;检测器本来的电压原来就有3600,估计在这样一折腾就给废了

看来下次再测样品的时候要增大稀释倍数了哈
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信号饱和后,冲洗不能降下来吗?怎么会直接报废检测器了啊?


这次含量真的太高了,500多PPM的钙啊;检测器本来的电压原来就有3600,估计在这样一折腾就给废了

看来下次再测样品的时候要增大稀释倍数了哈


业务提供的信息太不靠谱了啊,以前也碰到过
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这次含量真的太高了,500多PPM的钙啊;检测器本来的电压原来就有3600,估计在这样一折腾就给废了

看来下次再测样品的时候要增大稀释倍数了哈


业务提供的信息太不靠谱了啊,以前也碰到过

一般的多晶硅钙含量有多少啊?
悠旸
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看来不能相信他人说的,还是用常规武器(AAS,直读光谱,ICP)粗测一下再上ICP-MS
yukiyxy
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一般的多晶硅钙含量有多少啊?

应该很少,1ppm左右?
yukiyxy
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原文由 悠旸(ihqs) 发表:
看来不能相信他人说的,还是用常规武器(AAS,直读光谱,ICP)粗测一下再上ICP-MS


只怪自己当时太大意,轻信了业务的话
光哥
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popo
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如果浓度高,清洗应该就能下来啊。比如吧透镜拆下来洗洗。
你说的小锥比较烫,是不是冷却系统出问题了?
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