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ID:abcdefghijkl123
行业:其他
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ID:envirend
ID:timstoicpms
原文由 envirend(envirend) 发表:咱没有听过锥口效应。不知道是指锥孔越用越大还是指随着腐蚀锥变薄(特别是Pt截取锥)引起两个锥孔之间的间距变大,从而导致气流场变化引起的效应呢?
原文由 timstoICPMS(timstoICPMS) 发表:原文由 envirend(envirend) 发表:咱没有听过锥口效应。不知道是指锥孔越用越大还是指随着腐蚀锥变薄(特别是Pt截取锥)引起两个锥孔之间的间距变大,从而导致气流场变化引起的效应呢?他说的应该是 Interface 接口。等离子体焰与采样锥的效应。
原文由 abcdefghijkl123(abcdefghijkl123) 发表:原文由 timstoICPMS(timstoICPMS) 发表:原文由 envirend(envirend) 发表:咱没有听过锥口效应。不知道是指锥孔越用越大还是指随着腐蚀锥变薄(特别是Pt截取锥)引起两个锥孔之间的间距变大,从而导致气流场变化引起的效应呢?他说的应该是 Interface 接口。等离子体焰与采样锥的效应。是的,请问是如何形成的呢
原文由 abcdefghijkl123(abcdefghijkl123) 发表:今天看资料,突然看到锥口效应是ICP-MS分析中不可能被完全消除的干扰,想知道ICP-MS分析锥口效应的形成过程,谢谢各位大侠的指点
原文由 timstoICPMS(timstoICPMS) 发表:原文由 abcdefghijkl123(abcdefghijkl123) 发表:今天看资料,突然看到锥口效应是ICP-MS分析中不可能被完全消除的干扰,想知道ICP-MS分析锥口效应的形成过程,谢谢各位大侠的指点你把看到的资料 码字贴出来。你看不懂的地方,我可以解释。
ID:leemoonling
原文由 timstoICPMS(timstoICPMS) 发表:这段话很浅显,就是说:锥口会有盐沉积,那么实际进入锥孔的物质就会逐渐减少,即灵敏度漂移。实践中,我的的做法: 先做 blank-standards 工作曲线,测10个样品(约20分钟)——锥孔沉积从无到有,这期间灵敏度漂移很快。然后重做 blank-standards 工作曲线,再测20个样品(约40分钟),此时锥口沉积达到平衡状态,condition the cone 完成继续重复 blank-standards 工作曲线,再测20个样品(约40分钟)
原文由 leemoonling(leemoonling) 发表:要做那么多次标准曲线啊!我是在样品中间加个标准曲线的中间点观察一下浓度变化。