原文由 tang566(tang566) 发表:我根本就不知道有这回事,也不知道有啥用。原文由 砂锅粥(czcht) 发表:原文由 tang566(tang566) 发表:没有做过这个背景校正。这个背景校正是怎样的?原文由 砂锅粥(czcht) 发表:原文由 tang566(tang566) 发表:RSD连1%的不到,应该不能算大吧?
从三次测的结果看,第三次与第一次和第二次差的有点大。
RSD是不大,但从三次读数看,第一次和第二次接近,第三次与前面两次相差大,不清楚是不是这个原因。
你有做过fitted的背景校正吗?
我也没做过,不知道怎么做。
原文由 tang566(tang566) 发表:原文由 andrew-zhang(andrew-zhang) 发表:
Fitted背景矫正: Fitted背景矫正将采用峰形成形函数来处理被分析峰形。 Off peak背景矫正: Off peak背景矫正在背景相对简单或无结构背景的情况下较为实用。可对于连续背景、距被分析峰两翼有一定距离的较大干扰峰进行矫正。对于在谱线测量窗口中的干扰峰,不能充分正确地矫正。
瓦里安的机子都有这2个功能的,直接选择需要的背景校正方式就好了
在那里选择呢?[/quote
在谱图区,右击选择us as corrections,出现下图2,可以选择Fitted,或者图3中的Off peaks扣背景模式
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