主题：【讨论】ICP背景校正方式有哪些？具体适用于哪类情况？

原文由 砂锅粥(czcht) 发表:
Fitted是瓦里安默认的扣背景方式吗？
Off peak是不是像PE那种两个点来扣的？

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Fitted是瓦里安默认的扣背景方式吗？
Off peak是不是像PE那种两个点来扣的？

这2种方式应该是有具体的原理及针对性，不是专利方面的，瓦里安也是有Off peak的

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Fitted是瓦里安默认的扣背景方式吗？
Off peak是不是像PE那种两个点来扣的？

这2种方式应该是有具体的原理及针对性，不是专利方面的，瓦里安也是有Off peak的

我知道瓦里安也可以弄两点来扣背景的，就是想问一下Off peak是不是两点扣除背景那种。

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Fitted是瓦里安默认的扣背景方式吗？
Off peak是不是像PE那种两个点来扣的？

这2种方式应该是有具体的原理及针对性，不是专利方面的，瓦里安也是有Off peak的

我知道瓦里安也可以弄两点来扣背景的，就是想问一下Off peak是不是两点扣除背景那种。

是的，也可以设置成单边扣背景的

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请问单边扣背景一般在什么情况下使用？有什么优势吗？

2边扣背景的谱图：

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请问单边扣背景一般在什么情况下使用？有什么优势吗？

Off peak背景矫正： Off peak背景矫正在背景相对简单或无结构背景的情况下较为实用。可对于连续背景、距被分析峰两翼有一定距离的较大干扰峰进行矫正。对于在谱线测量窗口中的干扰峰，不能充分正确地矫正。

2边扣背景的谱图：

适用于单边扣背景的情况：

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请问单边扣背景一般在什么情况下使用？有什么优势吗？

Off peak背景矫正： Off peak背景矫正在背景相对简单或无结构背景的情况下较为实用。可对于连续背景、距被分析峰两翼有一定距离的较大干扰峰进行矫正。对于在谱线测量窗口中的干扰峰，不能充分正确地矫正。

2边扣背景的谱图：

适用于单边扣背景的情况：

太形象了。谢谢！有时候确实会有第二幅图的情况出现，我们测Al粉中的As、Pb元素谱图就经常是这种情况。

原文由 chun870605(justforyou9) 发表:

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请问单边扣背景一般在什么情况下使用？有什么优势吗？

Off peak背景矫正： Off peak背景矫正在背景相对简单或无结构背景的情况下较为实用。可对于连续背景、距被分析峰两翼有一定距离的较大干扰峰进行矫正。对于在谱线测量窗口中的干扰峰，不能充分正确地矫正。

2边扣背景的谱图：

适用于单边扣背景的情况：

太形象了。谢谢！有时候确实会有第二幅图的情况出现，我们测Al粉中的As、Pb元素谱图就经常是这种情况。

版主能上一张Al中Pb的谱图吗

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